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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

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First-Nano
薄膜測(cè)量系統(tǒng)
半自動(dòng)引線鍵合機(jī)
Etching刻蝕系統(tǒng)
Deposition沉積系統(tǒng)
Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng)
Harrick等離子清洗機(jī)
測(cè)量?jī)x器
PIE 等離子清洗機(jī)
Hall Effect
QCM/石英晶體微分析儀
Etching/等離子蝕刻系統(tǒng)
Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
美國(guó)杜邦Dupont
Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng)
Probe station/探針臺(tái)
Reflow Oven /回流焊
紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
快速退火爐
生命科學(xué)
KLA/科磊
  • NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)

    NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有5個(gè)鼓...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:31:25 對(duì)比
    NMC-4000（M）PAMOCVD系統(tǒng)
  • NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)

    NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)：針對(duì)InGaN及AlGaN沉積工藝所研發(fā)的臺(tái)式等離子輔助金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（PA-MOCVD）,該系統(tǒng)具有...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:30:48 對(duì)比
    NMC-4000（A）全自動(dòng)PAMOCVD系統(tǒng)
  • NLD-4000（ICPA）全自動(dòng)PEALD系統(tǒng)

    NLD-4000（ICPA）全自動(dòng)PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積技術(shù)。由于...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:26:59 對(duì)比
    NLD-4000（ICPA）全自動(dòng)PEALD系統(tǒng)
  • NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)

    NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)：ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積，這方面ALD原子層沉積遠(yuǎn)超過(guò)其它沉積...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 14:25:56 對(duì)比
    NLD-4000NLD-4000（ICPM）PEALD系統(tǒng)
  • NPE-4000PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)：能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到Z大可達(dá)12“ 直徑的基片上.采用淋浴頭電極或中空...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 11:00:02 對(duì)比
    NPE-4000PECVD等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
  • NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋浴頭電極或...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:59:00 對(duì)比
    NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
  • NPE-4000（M） PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（M） PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋浴頭...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:58:33 對(duì)比
    NPE-4000（M） PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
  • NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋浴頭電極或...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:58:08 對(duì)比
    NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
  • NPE-4000（A）全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（A）全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片.淋...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:57:41 對(duì)比
    NPE-4000（A）全自動(dòng)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
  • NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, 或DLC膜到Z大可達(dá)12“ 的基片...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:57:13 對(duì)比
    NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
  • NPE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

    NPE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng): NM的PECVD能夠沉積高質(zhì)量SiO2, Si3N4, DLC膜到Z大可達(dá)6“ 基片...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:56:49 對(duì)比
    NPE-4000（ICPA）全自動(dòng)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
  • NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到2個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達(dá)...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:56:12 對(duì)比
    NSC-1000磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:55:44 對(duì)比
    NSC-3000（M）磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：臺(tái)式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:55:15 對(duì)比
    NSC-3000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)

    NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)：*進(jìn)的全自動(dòng)濺射系統(tǒng)帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能的8“旋轉(zhuǎn)樣平臺(tái),Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:54:46 對(duì)比
    NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機(jī)
  • NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:53:59 對(duì)比
    NSC-3500（M）磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:53:26 對(duì)比
    NSC-3500（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)：立式自動(dòng)系統(tǒng)，帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到6“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:53:01 對(duì)比
    NSC-4000（A）全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
  • NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)

    NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)：帶有水冷或者加熱（Z高可加熱到700度）功能，Z大到8“旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，Z大可支持到4個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:52:33 對(duì)比
    NSC-4000NSC-4000（M）磁控濺射系統(tǒng)
  • NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

    NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)：NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔配置，樣品臺(tái)位于主腔體，二級(jí)腔體則用于安置電子束源。兩腔體之間的門閥作為預(yù)真空鎖...

    型號(hào)： 所在地：國(guó)外參考價(jià)： 面議更新時(shí)間：2017/3/3 10:51:46 對(duì)比
    NEE-4000（A）全自動(dòng)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
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