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光學(xué)接觸角測量儀可根據(jù)客戶的需求，針對不同的工作測試環(huán)境，提供相應(yīng)的解決方案，如有技術(shù)請咨詢德國韋氏納米系統(tǒng)

Harrick Plasma 等離子清洗機真空泵具有悠久歷史的專業(yè)光學(xué)光譜儀器的設(shè)計和制造。自1969開始，Harrick Plasma ，行業(yè)享有盛名。該公司...

高功率等離子清洗機除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對...

基本型等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清...

等離子刻蝕ICP基片通過預(yù)真空室裝入。其避免與工藝室以及任意殘余刻蝕副產(chǎn)品接觸，從而提高了用戶安全性。預(yù)真空室還使得工藝室始終保持在真空下，從而隔絕外部濕氣，防...

液相擴散技術(shù)（LDT）提供了各種 基材和表面材料的干燥性能性能增強。這種專有的干燥工藝及其它的系統(tǒng)控制生成超純IPA氣霧劑層，在靜止的基板移動擴散去除水分，不留...

PDC-002等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子表面處理機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體輕柔...

氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機模型結(jié)合，有利于氣體混合，氣體的流量和真空壓力監(jiān)測更精確的定量控制。

Harrick高功率擴展型等離子清洗機是一款多功能的工具，適用于刻蝕有機薄膜（10--100nm）以及表面活化改性。

AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積，具有良好的共形性;曝光控制，用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實現(xiàn)所需的共形性；預(yù)置有經(jīng)驗證過的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方；簡單...

在硅片等基板上附膜時，由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異，產(chǎn)生應(yīng)力，進而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲，而薄膜應(yīng)力測量裝置FLX系列可從這...

ActiGraph人體運動能耗監(jiān)測儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個國家的幾百所大學(xué)和研究機構(gòu)所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

ActiGraph人體運動能耗監(jiān)測儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過60個國家的幾百所大學(xué)和研究機構(gòu)所采用，主要的實驗室包括U.S. National Inst...

PIE 代表 Plasma ，Ion ，ElectronPIE 專業(yè)致力于等離子刻蝕，清洗，表面處理和離子，電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。PIE INC 成立于等離子研究小...

杜邦蝕刻殘留物去除液

杜邦™plasmasolv®ekc265™蝕刻后殘留物去除

法國JFP是*的手動、半自動引線鍵合機的制造商，其產(chǎn)品特別適合于從實驗研究到小規(guī)模試產(chǎn)的電子封裝的需要。全新設(shè)計的WB-200型半自動細絲鍵合機非常適合實驗室研...

SWC-3000兆聲晶圓清洗機兆聲單晶圓及掩模版清洗機提供高可重復(fù)性、高均勻性及*進的兆聲清洗。它可以在一個工藝步驟中包含了的無損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清...

聲表面波SAW功率發(fā)生器Fxilie簡化和加速聲流控實驗的一款高精度，頻率的控制器。

PIE 代表 Plasma ，Ion ，ElectronPIE 專業(yè)致力于等離子刻蝕，清洗，表面處理和離子，電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。PIE INC 成立于等離子研究小...