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當(dāng)前位置:德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司>>產(chǎn)品展示
PDC-002等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔...
刻蝕顯影清洗系統(tǒng)是一套脫機(jī)系統(tǒng),在一個(gè)封閉的清洗室內(nèi)清洗網(wǎng)紋輥,并由計(jì)算機(jī)控制。該系統(tǒng)包含一個(gè)回收裝置,去除廢料,清洗介質(zhì)的表面,并允許塑料介質(zhì)可以重復(fù)多次使用...
氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機(jī)模型結(jié)合,有利于氣體混合,氣體的流量和真空壓力監(jiān)測(cè)更精確的定量控制。
Harrick高功率擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)是一款多功能的工具,適用于刻蝕有機(jī)薄膜(10--100nm)以及表面活化改性。
AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性;預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過(guò)的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方;簡(jiǎn)單...
Model 308 便攜式光功率計(jì) ●精確性 ●可靠性 ●可重復(fù)性 ●數(shù)顯直讀 ●便捷性
45年來(lái),OAI始終是紫外能量測(cè)試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商,其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠,精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...
在硅片等基板上附膜時(shí),由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置FLX系列可從這...
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用,主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用,主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...
AS-One系統(tǒng)有兩種型號(hào): AS-One 100 系統(tǒng)或AS-One 150 系統(tǒng)該快速退火爐是專(zhuān)門(mén)為滿足大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)的需求而研制的,高可靠且...
OAI 超過(guò)35年的歷史按照您的具體規(guī)格設(shè)計(jì)和制造紫外線儀器和曝光系統(tǒng)在世界范圍內(nèi)亨有聲譽(yù)無(wú)論復(fù)雜還是簡(jiǎn)單,OAI都有較聰明的解決方案。
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PIE 代表 Plasma ,Ion ,ElectronPIE 專(zhuān)業(yè)致力于等離子刻蝕,清洗,表面處理和離子,電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。PIE INC 成立于等離子研究小...
橢偏儀是一種利用偏振態(tài)的變化 后光束探測(cè)樣品反應(yīng)技術(shù)。不像反射儀,參數(shù)(PSI和Del)是在非正常的入射角得到。改變?nèi)肷浣?。可以得到更多的?shù)據(jù)集,這將有助于精煉...
美國(guó)NXQ以的性能,經(jīng)濟(jì)的價(jià)格,深受用戶喜愛(ài),截至2016年底,超過(guò)5000臺(tái)NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)中心。
OAI 200型光刻機(jī) 和紫外曝光系統(tǒng)OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。
高真空MEMS焊封機(jī)
MPS-C-3X0磁體探針臺(tái)系統(tǒng)是世界上*個(gè)探針臺(tái),能夠在被測(cè)試的器件上提供三維磁場(chǎng)控制。
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