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德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)(香港)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第9年

18721247059

First-Nano
薄膜測(cè)量系統(tǒng)
半自動(dòng)引線鍵合機(jī)
Etching刻蝕系統(tǒng)
Deposition沉積系統(tǒng)
Megasonic Clean /兆聲清洗系統(tǒng)
Harrick等離子清洗機(jī)
測(cè)量?jī)x器
PIE 等離子清洗機(jī)
Hall Effect
QCM/石英晶體微分析儀
Etching/等離子蝕刻系統(tǒng)
Thin Film薄膜沉積系統(tǒng)
美國(guó)杜邦Dupont
Ethcing/等離子蝕刻系統(tǒng)
Probe station/探針臺(tái)
Reflow Oven /回流焊
紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
快速退火爐
生命科學(xué)
KLA/科磊
  • 等離子清洗機(jī)

    PDC-002等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子表面處理機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔...

    型號(hào): PDC-32G 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 16:41:20 對(duì)比
    PDC-002等離子清洗機(jī)實(shí)驗(yàn)型等離子清洗機(jī)臺(tái)式等離子清洗機(jī)研究型等離子清洗機(jī)小批量等離子清洗機(jī)
  • 刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

    刻蝕顯影清洗系統(tǒng)是一套脫機(jī)系統(tǒng),在一個(gè)封閉的清洗室內(nèi)清洗網(wǎng)紋輥,并由計(jì)算機(jī)控制。該系統(tǒng)包含一個(gè)回收裝置,去除廢料,清洗介質(zhì)的表面,并允許塑料介質(zhì)可以重復(fù)多次使用...

    型號(hào): 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 16:39:02 對(duì)比
    刻蝕顯影清洗系統(tǒng)清洗系統(tǒng)顯影清洗系統(tǒng)刻蝕顯影清洗系統(tǒng)應(yīng)用刻蝕顯影清洗系統(tǒng)特點(diǎn)
  • PlasmaFlo氣體流量混合器

    氣體流量混合器可用于任何與等離子清洗機(jī)模型結(jié)合,有利于氣體混合,氣體的流量和真空壓力監(jiān)測(cè)更精確的定量控制。

    型號(hào): PDC- FMG 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 16:38:06 對(duì)比
    PlasmaPlo氣體混合器HarrickPlasma等離子清洗機(jī)
  • Harrick高功率擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)

    Harrick高功率擴(kuò)展型等離子清洗機(jī)是一款多功能的工具,適用于刻蝕有機(jī)薄膜(10--100nm)以及表面活化改性。

    型號(hào): PDC-002-H... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/6/17 16:36:31 對(duì)比
    HarrickPlasma等離子清洗機(jī)PDC-002-HP高功率擴(kuò)展型
  • 原子層沉積系統(tǒng)

    AT-400原子層沉積系統(tǒng)高縱橫比沉積,具有良好的共形性;曝光控制,用于在 3D 結(jié)構(gòu)上實(shí)現(xiàn)所需的共形性;預(yù)置有經(jīng)驗(yàn)證過(guò)的 3D 和 2D 沉積的優(yōu)化配方;簡(jiǎn)單...

    型號(hào): AT-410 所在地:國(guó)外參考價(jià): ¥450000更新時(shí)間:2024/6/17 16:34:26 對(duì)比
    原子層沉積系統(tǒng)桌面型原子層沉積臺(tái)式原子層沉積AT-400原子層沉積
  • 便攜式紫外光功率計(jì)

    Model 308 便攜式光功率計(jì) ●精確性 ●可靠性 ●可重復(fù)性 ●數(shù)顯直讀 ●便捷性

    型號(hào): Model 308... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/2/23 14:56:01 對(duì)比
    紫外光功率計(jì)UV meter
  • 光刻曝光分析儀

    45年來(lái),OAI始終是紫外能量測(cè)試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商,其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠,精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...

    型號(hào): Model 659 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2024/2/23 13:53:48 對(duì)比
    光刻曝光曝光分析儀
  • 薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)

    在硅片等基板上附膜時(shí),由于基板和薄膜的物理定數(shù)有異,產(chǎn)生應(yīng)力,進(jìn)而引起基板變形。由涂抹均勻的薄膜引起的變形的表現(xiàn)為基板的翹曲,而薄膜應(yīng)力測(cè)量裝置FLX系列可從這...

    型號(hào): Toho FLX-... 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2023/6/6 13:05:03 對(duì)比
    薄膜測(cè)試薄膜應(yīng)力日本薄膜應(yīng)力薄膜應(yīng)力測(cè)試薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)
  • ActiGraph三軸加速體動(dòng)記錄儀

    ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用,主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...

    型號(hào): GT9X Link 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥4000更新時(shí)間:2021/4/12 13:33:35 對(duì)比
    人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
  • ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀

    ActiGraph人體運(yùn)動(dòng)能耗監(jiān)測(cè)儀ActiGraph設(shè)備已經(jīng)被超過(guò)60個(gè)國(guó)家的幾百所大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)所采用,主要的實(shí)驗(yàn)室包括U.S. National Inst...

    型號(hào): wGT3X-BT 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥3000更新時(shí)間:2021/4/12 13:19:08 對(duì)比
    人群活動(dòng)調(diào)查監(jiān)測(cè)睡眠研究監(jiān)測(cè)關(guān)聯(lián)性研究監(jiān)測(cè)運(yùn)動(dòng)研究監(jiān)測(cè)
  • 快速退火爐

    AS-One系統(tǒng)有兩種型號(hào): AS-One 100 系統(tǒng)或AS-One 150 系統(tǒng)該快速退火爐是專(zhuān)門(mén)為滿足大學(xué)、研究實(shí)驗(yàn)室和小規(guī)模生產(chǎn)的需求而研制的,高可靠且...

    型號(hào): AS-One sy... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/3/5 10:36:59 對(duì)比
    快速退火爐退火爐
  • 紫外光功率計(jì)

    OAI 超過(guò)35年的歷史按照您的具體規(guī)格設(shè)計(jì)和制造紫外線儀器和曝光系統(tǒng)在世界范圍內(nèi)亨有聲譽(yù)無(wú)論復(fù)雜還是簡(jiǎn)單,OAI都有較聰明的解決方案。

    型號(hào): Model 308... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥25000更新時(shí)間:2019/3/5 10:07:20 對(duì)比
    紫外光功率計(jì)功率計(jì)
  • 便攜式紫外光功率計(jì)

    OAI 超過(guò)35年的歷史按照您的具體規(guī)格設(shè)計(jì)和制造紫外線儀器和曝光系統(tǒng)在世界范圍內(nèi)亨有聲譽(yù)無(wú)論復(fù)雜還是簡(jiǎn)單,OAI都有較聰明的解決方案。

    型號(hào): Model 308 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥25000更新時(shí)間:2019/3/5 9:52:04 對(duì)比
    便攜式紫外光功率計(jì)光功率計(jì)紫外光功率計(jì)
  • 數(shù)據(jù)記錄光功率計(jì)

    OAI 超過(guò)35年的歷史按照您的具體規(guī)格設(shè)計(jì)和制造紫外線儀器和曝光系統(tǒng)在世界范圍內(nèi)亨有聲譽(yù)無(wú)論復(fù)雜還是簡(jiǎn)單,OAI都有較聰明的解決方案。

    型號(hào): Model 308... 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): ¥25000更新時(shí)間:2019/3/4 16:02:19 對(duì)比
    數(shù)據(jù)記錄光功率計(jì)光功率計(jì)數(shù)據(jù)記錄功率計(jì)
  • 旋風(fēng)等離子清洗機(jī)

    PIE 代表 Plasma ,Ion ,ElectronPIE 專(zhuān)業(yè)致力于等離子刻蝕,清洗,表面處理和離子,電子束產(chǎn)品的應(yīng)用。PIE INC 成立于等離子研究小...

    型號(hào): Tergeo 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/3/4 13:33:48 對(duì)比
    等離子清洗機(jī)旋風(fēng)等離子清洗機(jī)plasmaTergeo研究型
  • 橢偏儀

    橢偏儀是一種利用偏振態(tài)的變化 后光束探測(cè)樣品反應(yīng)技術(shù)。不像反射儀,參數(shù)(PSI和Del)是在非正常的入射角得到。改變?nèi)肷浣?。可以得到更多的?shù)據(jù)集,這將有助于精煉...

    型號(hào): SE系列 所在地:國(guó)外參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/2/13 10:13:04 對(duì)比
    薄膜測(cè)量橢偏儀測(cè)量薄膜分析薄膜測(cè)試薄膜
  • 紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)

    美國(guó)NXQ以的性能,經(jīng)濟(jì)的價(jià)格,深受用戶喜愛(ài),截至2016年底,超過(guò)5000臺(tái)NXQ曝光系統(tǒng)遍布*科研實(shí)驗(yàn)室,研發(fā)中心。

    型號(hào): NXQ4000 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/1/18 14:38:03 對(duì)比
    曝光機(jī)光刻機(jī)OAI
  • 紫外掩膜曝光機(jī)

    OAI 200型光刻機(jī) 和紫外曝光系統(tǒng)OAI系統(tǒng)可以處理各種常規(guī)和不規(guī)則形狀的寬范圍的基材。

    型號(hào): Model 200 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/1/18 14:34:45 對(duì)比
    曝光機(jī)OAI紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)光刻機(jī)
  • 高真空MEMS焊封機(jī)

    高真空MEMS焊封機(jī)

    型號(hào): 2Z-HVZ系列 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/1/18 14:21:04 對(duì)比
    焊封機(jī)真空焊封機(jī)真空MEMS焊封機(jī)
  • 磁體探針臺(tái)

    MPS-C-3X0磁體探針臺(tái)系統(tǒng)是世界上*個(gè)探針臺(tái),能夠在被測(cè)試的器件上提供三維磁場(chǎng)控制。

    型號(hào): MPS-C-3X0 所在地:香港特別行政區(qū)參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2019/1/18 14:13:48 對(duì)比
    磁體探針臺(tái)探針臺(tái)

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