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北京亞科晨旭科技有限公司
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  • 電子焊接:美國OKI/METCAL電烙鐵STTC

    美國OKI/METCAL電烙鐵MX-500/MX-5200/MX-5000手柄線MX-RM3E

    型號: PTTC 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:45:49 對比
    METCAL美國OKI電烙鐵福都工業(yè)奧科/奧泰
  • METCAL(OK)電烙鐵DFP-CN4/DCP-CN4

    METCAL電烙鐵DFP-CN4/DCP-CN4/DFP-CN5/DCP-CN5/DFP-CN6詳細(xì)介紹

    型號: DFP-CN5/D... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:44:08 對比
    METCAL(OK)電烙鐵OKIDFP-CN/DCP-CN
  • 高性能電子束曝光機

    高性能電子束曝光機是一款高性能的納米光刻系統(tǒng),擁有完整200mm尺寸的光刻能力,這款電子束光刻系統(tǒng)代表了不斷進化的高度成功和廣為市場接受的EBPG系列產(chǎn)品。

    型號: RAITH- EB... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:42:17 對比
    RAITH電子束光刻電子束曝光EBLEBPG5200
  • 電子束直寫系統(tǒng) EBPG5150

    EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺,采用跟電子束曝光機EBPG5200一樣的通用光刻平臺設(shè)計,

    型號: RAITH-EBP... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:40:40 對比
    RAITH電子束光刻電子束曝光EBLEBPG5150
  • 多功能電子束曝光系統(tǒng)PIONEER Two

    PIONEER Two將專業(yè)電子束曝光設(shè)備和電子成像系統(tǒng)所有的先進性能,融合成一套獨立的成套系統(tǒng)。多功能性、穩(wěn)定性、用戶友好性操作,使PIONEER Two系統(tǒng)...

    型號: 亞科 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:38:21 對比
    RAITH電子束光刻電子束曝光EBLPIONEER Two
  • RAITH多功能電子束曝光系統(tǒng)eLINE Plus

    探索超越電子束曝光功能的納米工程系統(tǒng)超高分辨電子束曝光、成像及納米工程系統(tǒng)納米加工領(lǐng)域的瑞士

    型號: 亞科 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:36:12 對比
    RAITH電子束光刻電子束曝光EBLeLINE Plus
  • Electron Beam Lithography System(EBL)

    納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。先進納米科技提供;的電子束納米光刻(EBL)系統(tǒng),或稱電子束直寫(E...

    型號: 亞科 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:33:43 對比
    亞科電子束光刻電子束曝光EBLCABL-UH
  • 超高分辨率電子束光刻EBL(CABL-UH series)

    納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進納米科技提供的電子束納米光刻(E...

    型號: CRESTEC 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:31:58 對比
    CRESTEC電子束光刻電子束曝光EBLCABL-UH
  • 電子束光刻系統(tǒng)

    電子束光刻系統(tǒng)特點1.采用高亮度和高穩(wěn)定性的TFE電子槍2.出色的電子束偏轉(zhuǎn)控制技術(shù)3.采用場尺寸調(diào)制技術(shù),電子束定位分辨率(address size)可達0....

    型號: CRESTEC 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:27:53 對比
    CRESTEC電子束光刻電子束曝光EBL電子束
  • ContourGT-K 3D光學(xué)顯微鏡

    ContourGT-K 3D光學(xué)顯微鏡是表面輪廓儀功能和價值的標(biāo)準(zhǔn)。該系統(tǒng)具有各種2D / 3D測量,高分辨率成像和用戶友好的界面,該系統(tǒng)以緊湊的封裝和緊湊的占...

    型號: BRUKER Co... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:10:55 對比
    三維光學(xué)輪廓儀白光干涉儀三維光學(xué)輪廓BRUKER ContourGT
  • ContourX-500 3D光學(xué)輪廓儀 用于3D計量

    ContourX-500光學(xué)輪廓儀是用于快速,非接觸式3D表面度量的世界上全面的自動化臺式系統(tǒng)。該系統(tǒng)集成了布魯克專有的傾斜/傾斜光學(xué)頭,可以*編程,以在一定角...

    型號: BRUKER Co... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:08:45 對比
    三維光學(xué)輪廓儀白光干涉儀三維光學(xué)輪廓Bruker
  • 三維光學(xué)輪廓儀 用于表面紋理計量

    ContourX-200光學(xué)輪廓儀將其特性,可自定義的選項以及易用性完美融合,可提供yi 流的快速,準(zhǔn)確和可重復(fù)的非接觸式3D表面度量。

    型號: Bruker Co... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:06:33 對比
    三維光學(xué)輪廓儀白光干涉儀三維光學(xué)輪廓Bruker
  • ContourX-100粗糙度測量的精簡而經(jīng)濟的臺式

    ContourX-100光學(xué)輪廓儀以佳的價格為準(zhǔn)確和可重復(fù)的非接觸式表面計量樹立了新的*。小尺寸系統(tǒng)采用流線型封裝,可提供的2D / 3D高分辨率測量功能,

    型號: ContourX-... 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:04:49 對比
    三維光學(xué)顯微鏡輪廓儀白光干涉儀三維光學(xué)輪廓Bruker
  • 三維光學(xué)顯微鏡

    布魯克作為三維表面測量與觀察業(yè)界的ling dao者,提供從微觀如MEMS(微機電系統(tǒng))到宏觀如發(fā)動機腔體等不同大小樣品的快說非接觸式分析。

    型號: 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:03:06 對比
    三維光學(xué)顯微鏡輪廓儀白光干涉儀三維光學(xué)輪廓Bruker
  • 超高分辨率的電子束光刻 CABL-UH 系列

    納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作的方法之一。

    型號: CRESTEC 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 15:00:55 對比
    CRESTEC電子束光刻電子束曝光EBL曝光
  • 電子束光刻 CABL-9000C 系列

    納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作的方法之一。

    型號: CRESTEC 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 14:58:46 對比
    CRESTEC電子束光刻電子束曝光EBL曝光
  • 電子束光刻系統(tǒng)EBL (E-Beam Lithography)

    納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作的方法之一。

    型號: CRESTEC 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 14:56:19 對比
    CRESTEC電子束光刻電子束曝光EBL曝光
  • 850LT SOI和直接晶圓鍵合的自動化生產(chǎn)鍵合

    EVG®850LT SOI和直接晶圓鍵合的自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng),適用于多種融合/分子晶圓鍵合應(yīng)用

    型號: EVG 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 14:54:29 對比
    EVG850 SOIGEMINI鍵合晶圓鍵合臨時鍵合
  • 850 SOI的自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)

    850 SOI的自動化生產(chǎn)鍵合系統(tǒng)適用于多種融合/分子晶圓鍵合應(yīng)用。SOI晶片是微電子行業(yè)有望生產(chǎn)出更快,性能更高的微電子設(shè)備的有希望的新基礎(chǔ)材料。晶圓鍵合技術(shù)...

    型號: EVG 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 14:52:54 對比
    EVG850 SOIGEMINI鍵合晶圓鍵合臨時鍵合
  • 810LT LowTemp™等離子激活系統(tǒng)

    810LT LowTemp™等離子激活系統(tǒng);適用于SOI,MEMS,化合物半導(dǎo)體和先進基板鍵合的低溫等離子體活化系統(tǒng)

    型號: EVG 所在地:北京市參考價: 面議更新時間:2024/9/25 14:51:18 對比
    EVGGEMINI鍵合晶圓鍵合臨時鍵合

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