KLA Nano Indenter® G200X納米壓痕儀提供了易于使用的納米級(jí)力學(xué)測(cè)試工具，并快速、精確地對(duì)結(jié)果進(jìn)行定量分析。G200X系統(tǒng)配置了我們性能優(yōu)秀的運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、最大的樣品裝載系統(tǒng)和高分辨率光學(xué)顯微鏡。因?yàn)閾碛蠭nView軟件、InQuest控制器和InForce作動(dòng)器，我們的整個(gè)壓痕產(chǎn)品線均擁有優(yōu)秀的性能。KLA Nano Indenter® G200X納米壓痕儀系統(tǒng)選件包括連續(xù)剛度測(cè)量（CSM）、掃描探針顯微成像、劃痕測(cè)試、頻率掃描、電學(xué)性能測(cè)量、快速壓痕測(cè)試和沖擊測(cè)試。

主要功能

• 電磁驅(qū)動(dòng)作動(dòng)器可實(shí)現(xiàn)載荷和位移的寬動(dòng)態(tài)范圍控制

• 高分辨率光學(xué)顯微鏡與精密XYZ移動(dòng)系統(tǒng)的結(jié)合能實(shí)現(xiàn)高精度觀察與定位測(cè)試樣本。

• 便捷的樣品裝載臺(tái)與多樣品定位功能實(shí)現(xiàn)高通量測(cè)試。

• 模塊選件遠(yuǎn)不止能進(jìn)行壓痕測(cè)試，還可進(jìn)行SPM成像、劃痕測(cè)試、高溫納米壓痕測(cè)量、動(dòng)態(tài)壓痕測(cè)試（連續(xù)剛度測(cè)量）和快速壓痕測(cè)試等模塊化升級(jí)選件。

• 直觀的用戶操作界面便于快速進(jìn)行測(cè)試設(shè)置；僅需點(diǎn)擊幾下鼠標(biāo)即可完成測(cè)試的參數(shù)設(shè)置。

• 實(shí)時(shí)高效的實(shí)驗(yàn)控制，簡(jiǎn)單易用的測(cè)試流程開(kāi)發(fā)和測(cè)試設(shè)置。

• 全套InView軟件，包括用于分析數(shù)據(jù)和創(chuàng)建報(bào)告的ReviewData和InFocus。

• 備受贊譽(yù)的快速納米壓痕測(cè)試可用于生成材料力學(xué)性能圖像，并提升統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)的可靠性。

• InQuest高速數(shù)字控制器，數(shù)據(jù)采集速率最高可達(dá)100kHz，時(shí)間常數(shù)最快為20µs。

主要應(yīng)用

• 快速硬度和模量測(cè)量（基于Oliver-Pharr模型）

• 快速材料表面力學(xué)特性成像

• ISO 14577硬度測(cè)試

• 薄膜及涂層測(cè)試

• 界面附著力測(cè)量

• 斷裂韌性測(cè)量

• 粘彈性測(cè)量，包括損耗因子，儲(chǔ)存模量和損耗模量

• 掃描探針顯微成像（3D 成像）

• 定量劃痕和摩擦磨損測(cè)試

• 高溫納米壓痕測(cè)試

• I-V測(cè)試

行業(yè)分布

• 高校、科研實(shí)驗(yàn)室和研究所

• 半導(dǎo)體與封裝產(chǎn)業(yè)

• PVD/CVD硬質(zhì)涂層（DLC、TiN）

• MEMS：微機(jī)電系統(tǒng)/納米級(jí)通用測(cè)試

• 陶瓷與玻璃

• 金屬與合金

• 制藥

• 涂層與油漆

• 復(fù)合材料

• 電池與儲(chǔ)能

• 汽車與航空航天