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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>測量/計量儀器>表面測量儀器>輪廓儀> KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀

KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀

參考價50000-999999/臺
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學(xué)博士共同創(chuàng)辦的德國公司?;?/span> Science is international”的想法,“全球協(xié)同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學(xué)家到科學(xué)家,科學(xué)開創(chuàng)美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導(dǎo)體技術(shù)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研領(lǐng)域,始終秉承“前沿、專業(yè)、科學(xué)”的宗旨,將前沿技術(shù)引進到協(xié)同實驗室。我們的產(chǎn)品覆蓋了微納加工制程;材料科學(xué)的檢測、分析;生命科學(xué)成像,腦科學(xué)與行為認(rèn)知等相關(guān)領(lǐng)域。作為全球科技前沿的儀器供應(yīng)商,FIRSTNANO具有全球技術(shù)視野、優(yōu)質(zhì)供應(yīng)體系、以及嚴(yán)格的質(zhì)量管控系統(tǒng),能為客戶提供前沿的技術(shù)解決方案。

公司服務(wù)的客戶領(lǐng)域廣泛,其中包括消費電子、航空、航天、醫(yī)藥技術(shù)、半導(dǎo)體行業(yè)、光電子行業(yè)、高校和研究機構(gòu)。

在成長的過程中,我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港(中華區(qū))公司成立以來,我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設(shè)立了分支機構(gòu)。

我們真誠邀請業(yè)內(nèi)英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢想揚帆起航!

 

 

 

 

半導(dǎo)體儀器和電子產(chǎn)品耗材耗材

產(chǎn)地類別 進口 產(chǎn)品種類 非接觸式輪廓儀/粗糙度儀
價格區(qū)間 50萬-100萬 應(yīng)用領(lǐng)域 能源,電子,交通,汽車,綜合

KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀是一款非接觸式三維(3D)表面地貌測量系統(tǒng)。KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀基于Zeta-300的功能,增加了用于全自動測量的機械手臂操作系統(tǒng)。該系統(tǒng)由ZDot技術(shù)及多模式光學(xué)組件提供支持,可支持各種樣品測量:透明和不透明、低至高反射率及各種粗糙程度的紋理,以及從納米到毫米范圍的臺階高度。

KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀


Zeta-388光學(xué)輪廓儀集成了六種不同的光學(xué)量測技術(shù),構(gòu)建出一款可靈活配置且易于使用的系統(tǒng)。ZDot測量模式同時收集高分辨率的3D掃描信息和樣品表面真彩色圖像。其他3D測量技術(shù)包括白光干涉測量法、諾馬斯基光干涉對比顯微法和剪切干涉測量法,膜厚測量包含使用ZDot模式測量和光譜反射的測量方法。Zeta-388也是一款專業(yè)顯微鏡,可用于抽樣檢查或缺陷自動檢測。Zeta-388通過提供全面的臺階高度、粗糙度和薄膜厚度測量、缺陷檢測功能和機械手臂操作系統(tǒng)來支持研發(fā)和生產(chǎn)環(huán)境。

特征

  • 采用ZDot及多模式光學(xué)技術(shù)且便于使用的光學(xué)輪廓儀,可應(yīng)對各種各樣的應(yīng)用程序

  • 用于抽樣檢查和缺陷檢測的高質(zhì)量顯微鏡

  • ZDot:同時收集高分辨率的三維(3D)掃描及真彩色無限聚焦圖像

  • ZXI:采用縱向高分辨率的廣域測量白光干涉儀

  • ZIC:圖像對比度增強,可實現(xiàn)亞納米級粗糙度表面的定量分析

  • ZSI:縱向高分辨率圖像的剪切干涉術(shù)

  • ZFT:通過集成式寬頻反射測量法測量薄膜厚度和反射率

  • AOI:自動光學(xué)檢測,可量化樣本缺陷

  • 生產(chǎn)能力:具有多點量測和圖形識別功能的全自動測量

  • 機械手臂操作系統(tǒng):自動加載直徑為50毫米到200毫米的不透明(例如硅)和透明(例如藍(lán)寶石)樣品

KLA Zeta™-388光學(xué)輪廓儀

應(yīng)用

  • 臺階高度:從納米到毫米的3D臺階高度

  • 表面:光滑表面到粗糙表面上的粗糙度和波紋度測試

  • 翹曲:2D或3D翹曲

  • 應(yīng)力:2D或3D薄膜應(yīng)力

  • 薄膜厚度:透明薄膜厚度從30nm至100µm不等

  • 缺陷檢測:捕獲大于1µm的缺陷

  • 缺陷審查:KLARF文件可用于尋找缺陷,以確定劃痕缺陷位置,測量缺陷3D表面形貌

工業(yè)

  • 無線通訊器件(SAW/BAW/FBAR)

  • 發(fā)光二極管(LED):發(fā)光二極管和PSS(圖形化的藍(lán)寶石襯底)

  • 半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體

  • 半導(dǎo)體WLCSP(晶圓級芯片封裝)

  • 半導(dǎo)體FOWLP(扇出晶圓級封裝)

  • PCB(印刷電路板)和柔性電路板

  • MEMS:微機電系統(tǒng)

  • 醫(yī)療器械和微流體元件




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