Mirau型干涉（米勞干涉）的測(cè)量原理主要基于光的干涉現(xiàn)象，特別是利用相干光波的疊加來(lái)產(chǎn)生干涉條紋，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)物體表面形貌的精確測(cè)量。以下是對(duì)其測(cè)量原理的詳細(xì)解釋?zhuān)?/p>

一、基本原理

當(dāng)兩束相干光波在空間某點(diǎn)相遇時(shí)，它們會(huì)相互疊加并產(chǎn)生干涉現(xiàn)象。干涉條紋的形成取決于兩束光的相位差，相位相同時(shí)產(chǎn)生亮條紋，相位相反時(shí)產(chǎn)生暗條紋。Mirau型干涉儀利用這一原理，通過(guò)測(cè)量干涉條紋的變化來(lái)推斷被測(cè)物體表面的微小形變或高度變化。

二、干涉儀結(jié)構(gòu)

Mirau型干涉儀通常由光源、分束器、物鏡、參考鏡和探測(cè)器等部分組成。其中，物鏡和參考鏡是關(guān)鍵組件，它們共同構(gòu)成一個(gè)干涉系統(tǒng)。物鏡用于聚焦被測(cè)物體表面的反射光，而參考鏡則提供一個(gè)穩(wěn)定的參考光波。

三、測(cè)量原理

光路設(shè)計(jì)：在Mirau型干涉儀中，光源發(fā)出的光經(jīng)過(guò)分束器后被分為兩束。一束光直接射向被測(cè)物體表面，經(jīng)反射后進(jìn)入探測(cè)器；另一束光則射向參考鏡，經(jīng)反射后也進(jìn)入探測(cè)器。這兩束光在探測(cè)器上相遇并產(chǎn)生干涉條紋。

相位差測(cè)量：由于被測(cè)物體表面的微小形變或高度變化，反射光的相位會(huì)發(fā)生變化。這種相位變化會(huì)導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng)或變形。通過(guò)測(cè)量干涉條紋的變化，可以計(jì)算出被測(cè)物體表面的形變或高度變化。

數(shù)據(jù)處理：探測(cè)器將干涉條紋的圖像轉(zhuǎn)換為電信號(hào)，并傳輸?shù)接?jì)算機(jī)進(jìn)行處理。計(jì)算機(jī)通過(guò)算法分析干涉條紋的變化，從而得出被測(cè)物體表面的三維形貌或薄膜厚度等參數(shù)。

四、應(yīng)用

Mirau型干涉儀具有高精度、非接觸式測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)，廣泛應(yīng)用于光學(xué)元件的檢測(cè)、表面粗糙度的測(cè)量、薄膜厚度的測(cè)量以及三維形貌的重建等領(lǐng)域。例如，在光學(xué)元件制造業(yè)中，Mirau型干涉儀可用于檢測(cè)透鏡、棱鏡等光學(xué)元件的表面質(zhì)量；在半導(dǎo)體工業(yè)中，它可用于測(cè)量薄膜的厚度和均勻性；在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域，它可用于細(xì)胞及組織的三維重建等。

綜上所述，Mirau型干涉（米勞干涉）的測(cè)量原理基于光的干涉現(xiàn)象和相干光波的疊加原理。通過(guò)測(cè)量干涉條紋的變化，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)被測(cè)物體表面形貌的精確測(cè)量。

TopMap Micro View白光干涉3D輪廓儀

一款可以“實(shí)時(shí)”動(dòng)態(tài)/靜態(tài) 微納級(jí)3D輪廓測(cè)量的白光干涉儀

1)一改傳統(tǒng)白光干涉操作復(fù)雜的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)一鍵智能聚焦掃描，亞納米精度下實(shí)現(xiàn)優(yōu)秀的重復(fù)性表現(xiàn)。

2)系統(tǒng)集成CST連續(xù)掃描技術(shù)，Z向測(cè)量范圍高達(dá)100mm，不受物鏡放大倍率的影響的高精度垂直分辨率，為復(fù)雜形貌測(cè)量提供全面解決方案。

3）可搭載多普勒激光測(cè)振系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)實(shí)現(xiàn)“動(dòng)態(tài)”3D輪廓測(cè)量。

實(shí)際案例

1，優(yōu)于1nm分辨率，輕松測(cè)量硅片表面粗糙度測(cè)量，Ra=0.7nm

2，毫米級(jí)視野，實(shí)現(xiàn)5nm-有機(jī)油膜厚度掃描

3，優(yōu)秀的“高深寬比”測(cè)量能力，實(shí)現(xiàn)光刻圖形凹槽深度和開(kāi)口寬度測(cè)量。