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日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 成都藤田科技有限公司
  • 品牌 OTSUKA/日本大塚
  • 型號
  • 產地
  • 廠商性質 代理商
  • 更新時間 2025/2/22 10:11:01
  • 訪問次數(shù) 25

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公司簡介

COMPANY INTRODUCTION

成都藤田科技有限公司經營進出口業(yè)務7年有余,位于西南地區(qū)四川成都;通過不斷努力、進步與各類日本、部分歐美品牌建立長期穩(wěn)定的合作關系,覆蓋電子產品、工具、電子元器件、儀器儀表、防靜電設備、輔料、自動化設備、非危險性化工產品、機械設備及配件、通信設備。

成都藤田科技供貨渠道

因為長期良好的經營環(huán)境,獲得國內外客戶與商社的喜愛,隨著互聯(lián)網的發(fā)展建立了專有的網絡模式MRO;

堅持以服務客戶為主的經營理念、追求客戶滿意服務為宗旨、禮貌誠信為原則提供客戶服務,并以成為客戶值得信賴的工業(yè)品綜合服務商為目標。

MRO兩種形式

  1. 超市建立工業(yè)品專柜,大型超市也會經營部分工業(yè)品,但種類和數(shù)量有限。

  2. 網上工業(yè)品超市,這種形式配送可為客戶大規(guī)模找尋產品,使供應商和采購商都實現(xiàn)“進入一個點,得到一大片”連鎖效應,有效降低采購商采購成本。

代理品牌:

  1. 日本MUSASHI武藏(點膠機

  2. 日本HOYA豪雅(UV固化燈,玻璃鏡片)

  3. 日本SIGMAKOKI西格瑪(光學元件、物鏡等)

  4. 日本YUMEX優(yōu)美科思(各種疝氣燈)

  5. 日本TOKISANGYO東機產業(yè)(粘度計

  6. 日本KANOMAX加野(風速儀)

  7. 日本YAMADA雅瑪達(隔膜泵)

  8. 日本EPSON愛普生(機械臂)

  9. ATTEN安泰信(焊接產品)

  10. 日本TSUBOSAN壺三(銼刀工具)

  11. 日本sakurai櫻井(無塵紙

  12. 韓國DIT東日技研(除靜電產品)

  13. 韓國HANIL韓一(攪拌機)

優(yōu)勢品牌:

  1. 日本Otsuka大塚電子(晶圓、覆膜測厚儀)

  2. 日本FLUORO福樂(用于晶圓的搬運)

  3. 日本AND艾安得(微量電子分析天平)

  4. 英國Meech密其(非接觸式除塵系統(tǒng))

  5. 日本SSD西西蒂(防靜電設備)

  6. 日本NEW-COSMOS 新宇宙(氣體檢測儀

  7. YIZOMO一子沫(拉拔機)

  8. 日本FURUPLA富如拉(噴壺)

  9. 日本PISCO匹士克(氣動元件

  10. 日本TECHNO特古羅(錫爐)

  11. 日本AMANO安滿能(除塵設備)

  12. 日本MALCOM馬康(粘度計)

  13. 日本HOZAN寶山(鑷子、鉗子等工具)

  14. 日本MITUTOYO三豐(測量器具)

  15. 美國SIMCO思美高(防靜電、除塵產品);

成都藤田科技為廣大客戶提供一體化、全面、優(yōu)質高效服務。




進出口業(yè)務,日本武藏點膠機,日本豪雅檢測光源,海康視覺成像,安泰信焊錫設備

產地類別 進口 價格區(qū)間 面議
應用領域 綜合

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長-成都藤田科技提供

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長

產品信息

特點

● 可在紫外和可見(250至800nm)波長區(qū)域中測量橢圓參數(shù)

● 可分析納米級多層薄膜的厚度

● 可以通過超過400ch的多通道光譜快速測量Ellipso光譜

● 通過可變反射角測量,可詳細分析薄膜

● 通過創(chuàng)建光學常數(shù)數(shù)據(jù)庫和追加菜單注冊功能,增強操作便利性

● 通過層膜貼合分析的光學常數(shù)測量可控制膜厚度/膜質量


測量項目

測量橢圓參數(shù)(TANψ,COSΔ)

光學常數(shù)(n:折射率,k:消光系數(shù))分析

薄膜厚度分析


用途

半導體晶圓
柵氧化膜,氮化膜
SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe,BPSG,TiN
光學常數(shù)(波長色散)

復合半導體
AlxGa(1-x)多層膜、非晶硅

FPD
取向膜
等離子顯示器用ITO、MgO等

各種新材料
DLC(類金剛石碳)、超導薄膜、磁頭薄膜

光學薄膜
TiO2,SiO2多層膜、防反射膜、反射膜

光刻領域
g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)和KrF(248nm)等波長的n、k評估


原理

包括s波和p波的線性偏振光入射到樣品上,對于反射光的橢圓偏振光進行測量。s波和p波的位相和振幅獨立變化,可以得出比線性偏振光中兩種偏光的變換參數(shù),即p波和S波的反射率的比tanψ相位差Δ。
日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    


產品規(guī)格

型號

FE-5000

樣品尺寸

200x200毫米

入射(反射)的角度范圍

45至90°

入射點直徑*2

關于φ1.2sup*3

測定波長范圍*5

250至800納米

平臺驅動方式

手動/自動

裝載機兼容

尺寸,重量

1300(W)×900(D)×1750(H)mm
    約350公斤*7

*1可以驅動偏振器,可以分離不感帶有效的位相板。
*2取決于短軸角度。
*3對應微小點(可選)
*4它是使用VLSI標準SiO2膜(100nm)時的值。
*5可以在此波長范圍內進行選擇。
*6光源因測量波長而異。
*7選擇自動平臺時的值。


測量示例

以梯度模型分析ITO結構[FE-0006]

作為用于液晶顯示器等的透明電極材料ITO(氧化銦錫),在成膜后的退火處理(熱處理)可改善其導電性和色調。此時,氧氣狀態(tài)和結晶度也發(fā)生變化,但是這種變化相對于膜的厚度是逐漸變化的,不能將其視為具有光學均勻組成的單層膜。
以下介紹對于這種類型的ITO,通過使用梯度模型,從上界面和下界面的nk測量斜率。

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    

考慮到表面粗糙度測量膜厚度值[FE-0008]

當樣品表面存在粗糙度(Roughness)時,將表面粗糙度和空氣(air)及膜厚材料以1:1的比例混合,模擬為“粗糙層”,可以分析粗糙度和膜厚度。以下介紹了測量表面粗糙度為幾nm的SiN(氮化硅)的情況。

   

  

使用非干涉層模型測量封裝的有機EL材料[FE-0011]

有機EL材料易受氧氣和水分的影響,并且在正常大氣條件下它們可能會發(fā)生變質和損壞。因此,在成膜后立即用玻璃密封。以下介紹在密封狀態(tài)下通過玻璃測量膜厚度的情況。玻璃和中間空氣層使用非干涉層模型。

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    

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使用多點相同分析測量未知的超薄nk[FE-0014]

為了通過擬合最小二乘法來分析膜厚度值(d)需要材料nk。如果nk未知,則d和nk都被分析為可變參數(shù)。然而,在d為100nm或更小的超薄膜的情況下,d和nk是無法分離的,因此精度將降低并且將無法求出精確的d。在這種情況下,測量不同d的多個樣本,假設nk是相同的,并進行同時分析(多點相同分析),則可以高精度、精確地求出nk和d。

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    

日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長    日本Otsuka大塚FE-5000橢偏儀可在紫外波長-成都藤田科技提供





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