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北京瑞科中儀科技有限公司
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連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備
  • 連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備

更新時(shí)間：2024-11-18 21:00:07

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( 聯(lián)系我們，請說明是在 化工儀器網(wǎng) 上看到的信息，謝謝?。?/p>

簡要描述：連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備：In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個(gè)或多個(gè)濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個(gè)真空腔內(nèi)。

連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備 In-Line的濺鍍沉積是指基板在一個(gè)或多個(gè)濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積。其基板沿著軌道穿過各個(gè)真空腔內(nèi)。

連續(xù)式多腔磁控濺鍍設(shè)備其電漿產(chǎn)生器有許多種類並且每一種都可使用，例如射頻電源、直流電源或脈衝直流電源。 還可以容納諸如濺鍍蝕刻、基板加熱或電漿清洗之類的可選步驟，並且具有完整的儀器和控制裝置可用於金屬導(dǎo)電薄膜、電介質(zhì)、光學(xué)薄膜或其他濺鍍應(yīng)用。

SYSKEY的In-Line濺鍍沉積可精確控制其濺鍍製程條件，從而為客戶提供優(yōu)質(zhì)的薄膜。

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應(yīng)用領(lǐng)域腔體

  • 奈米研究技術(shù)。

  • 產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查。

  • 材料研究。

  • 太陽能電池。

  • 觸碰螢?zāi)?/span>。

  • TFT-LCD。

  • 氧化物、氮化物和金屬材料的研究。

  • 客製化的腔體尺寸取決於基板尺寸和

    其應(yīng)用。

  • 具有顯示功能的全領(lǐng)域真空計(jì)和用

    於壓力控制的Baratron真空計(jì)。

  • 腔體的極限真空度約為10-7Torr。



配置和優(yōu)點(diǎn)選件

  • 客製化基板尺寸為1100 x 1300 mm2(玻璃)。

  • 優(yōu)異的薄膜均勻度小於±5％。

  • 高沉積速率≥ 250nm/min和高效率陰極。

  • 濺鍍功率：射頻 5kW，直流或脈衝直流20kW。

  • 具有高均勻的氣體分佈的流量控制器。

  • 穩(wěn)定的溫度控制，可將基板加熱到400°C。

  • 水平或垂直濺鍍。

  • 基板載臺回流線。

  • 自動(dòng)傳送機(jī)構(gòu)。

  • OES、RGA或製程監(jiān)控的額外備用端口。



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