您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊(cè)| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
您好, 歡迎來(lái)到化工儀器網(wǎng)！ 登錄| 免費(fèi)注冊(cè)| 產(chǎn)品展廳| 收藏商鋪|
19926496030
當(dāng)前位置：愛(ài)安德商貿(mào)（深圳）有限公司>>技術(shù)文章>>愛(ài)安德介紹CMP設(shè)備原理
愛(ài)安德介紹CMP設(shè)備原理
我們將解釋CMP設(shè)備的工作原理。 CMP設(shè)備通常一次高速加工許多硅片，因此通常是大型設(shè)備。其組成部分包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)、施加化學(xué)物質(zhì)的噴嘴和砂紙拋光部分等。此外，還有用于傳送硅片的機(jī)器人、拋光后的清潔部分和檢測(cè)部分等。
基本操作是從噴嘴將化學(xué)溶液或化學(xué)品噴射到硅片上，將砂紙等壓在硅片上，并通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)旋轉(zhuǎn)臺(tái)進(jìn)行拋光?；瘜W(xué)拋光目標(biāo)包括氧化膜、鎢布線和銅布線。在氧化膜的情況下，將氧化膜溶解在堿性溶液中并用相同組成的氧化硅進(jìn)行拋光。對(duì)于鎢布線來(lái)說(shuō)，鎢表面經(jīng)過(guò)氧化，表面用氧化硅拋光。對(duì)于銅布線，將銅氧化后，制成復(fù)合物，并用氧化硅進(jìn)行拋光。
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負(fù)責(zé)，化工儀器網(wǎng)對(duì)此不承擔(dān)任何保證責(zé)任。
溫馨提示：為規(guī)避購(gòu)買風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購(gòu)買產(chǎn)品前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。
