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nidec壓力傳感器

參   考   價: 18000

訂  貨  量: ≥100  臺

具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號P-8505

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所  在  地深圳市

更新時間:2024-07-09 11:08:14瀏覽次數(shù):540次

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應用領域 環(huán)保,化工,能源,電子,綜合
nidec壓力傳感器P-8505
適用介質(zhì)不腐蝕SUS316L的氣體/液體
指導方法表壓
額定壓力范圍0-50、0-100、0-350、0-1000kPa
電源1.5 mA DC(恒流)
輸出[量程電壓]90±30mV
線性/遲滯
±0.3%FS, ±0.5%FS
接頭形狀φ17.5mm

nidec壓力傳感器P-8505

nidec壓力傳感器P-8505

曝光 通過光照,只有光刻膠膜曝光的部分發(fā)生變化,轉移到硅片表面??梢哉f,這個過程需要最細微的技術。然后將其浸入顯影劑中,僅溶解硅晶片上的曝光區(qū)域。此時剩余的光刻膠膜即為9)的刻蝕掩模。

9)蝕刻

這是用溶液刮掉氧化膜和薄膜的工作。任何剩余的光刻膠都不會被刮掉。有兩種類型的蝕刻:使用溶液的濕法蝕刻和使用氣體的干法蝕刻。

10) 抗蝕劑剝離/清潔

剩余的光刻膠通過與化學品和氣體的化學反應被剝離。如果您在最后進行清潔,您將擁有預期的電路。

11)

通過添加通過離子注入熱處理激活的雜質(zhì)離子,可以改變半導體的特性。

12) Silicon wafer smoothing

Silicon wafer本身可能因為涂了一層薄膜而有凹凸不平,所以要重新打磨。通過重復從 7) 

-60

 °C 的過程控制。(鏡面型)露點儀

④ 過程和無塵室需要相對濕度水平控制的

 ? 簡單的 EE060

⑤ 需要大量水分并需要控制恒定水分的過程

 ? 主要在高溫和高濕度下測量 EE33 帶防結露措施的溫濕度計

氧氣濃度測量

(1) 需要通過氫氣置換

 等去除氧氣的工序? 2001LC 原電池式氧氣濃度

計,

 可確認 1 ppm 以下。4100


適用介質(zhì)不腐蝕SUS316L的氣體/液體
指導方法表壓
額定壓力范圍0-50、0-100、0-350、0-1000kPa
電源1.5 mA DC(恒流)
輸出[量程電壓]90±30mV
線性/遲滯
±0.3%FS, ±0.5%FS
接頭形狀φ17.5mm




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