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深圳市矢量科學儀器有限公司

當前位置：深圳市矢量科學儀器有限公司>>半導體前道工藝設備>>1 光刻設備>> WS-1000MH濕法勻膠工作臺

濕法勻膠工作臺

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號WS-1000MH

品牌Laurell

廠商性質經(jīng)銷商

所在地美國

更新時間：2024-09-05 14:45:26瀏覽次數(shù)：326次

聯(lián)系我時，請告知來自 化工儀器網(wǎng)
Laurell的WS-1000MH系列微型濕法勻膠工作臺適用于更狹小的空間和較小的預算。這個簡單的工作站被提煉出真正的濕式工作站必須具備的精髓，以實現(xiàn)最大的經(jīng)濟性。

1. 尺寸

24英寸（寬）x433/8英寸（深）x741/4英寸（高）（61.0厘米（寬x110.04厘米（深）x188.60厘米（高）

2. 特征

所有聚丙烯結構（WS-1000MH-WPP）                                  均提供自熄功能

適合安裝任何Laurell旋轉處理器

穿孔濕甲板（易于拆卸）                          

濕式增壓室

帶儀表的排氣增壓室

下方是用于加熱器、泵、容器的隔離組件/抽屜（顯示抽屜型號）

可提供不帶通風柜的通風柜，以滿足更溫和的工藝要求

3. 選項

觸摸屏控制界面

觀看LaurellTouch演示視頻

處理器排氣聯(lián)鎖和控制（某些型號標配）

通過壓力容器物料攪拌（磁性）

化學加熱

沖洗至電阻率

排水分流器                        

真空裝載棒                

晶圓盒支架

泄漏檢測

燈塔                        

如有需要，可提供高材料

阻燃選項



有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻，

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數(shù)：1. 光源：375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術參數(shù)：$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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