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深圳市矢量科學儀器有限公司

濕法勻膠工作臺

參  考  價:面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號WS-1000

品牌Laurell

廠商性質(zhì)經(jīng)銷商

所在地美國

更新時間:2024-09-05 16:50:11瀏覽次數(shù):288次

聯(lián)系我時,請告知來自 化工儀器網(wǎng)
Laurell的WS-1000系列濕法勻膠工作臺的配置和測試模塊建造和運輸安裝時間短。易于裝載和操作,所有物品都讓操作員方便地觸及。

1. 尺寸

48英寸(寬)x433/8英寸(深)x741/4英寸(高)(121.9厘米(寬)x110.04厘米(深)x188.60厘米(高)

2. 典型工藝

蝕刻

顯影—水性/溶劑

清潔—水性/溶劑

硫酸/過氧化物(原位混合)

HBr

溫控顯影

漂洗/烘干

3. 特征

全聚丙烯結(jié)構(gòu)(可提供自熄功能)                          

適合安裝任何Laurell旋轉(zhuǎn)處理器

穿孔濕甲板(易于拆卸)

濕式增壓室

帶儀表的排氣增壓室

下方為加熱器、泵、容器的隔離組件/抽屜......

4. 選項

觸摸屏控制界面

觀看LaurellTouch演示視頻

處理器排氣聯(lián)鎖(EDC™型號標配)         

化學加熱

通過壓力容器物料攪拌(磁性)

沖洗至電阻率

排水分流器

真空裝載棒

晶圓盒支架

泄漏檢測

燈塔

如有需要,可提供高材料                        

5. 阻燃選項

WS-1000-CP7-D—聚丙烯配方其阻燃特性符合嚴格的FMRC4910測試標準對于大多數(shù)方面的阻燃性、自熄性和燒穿特性。這種先進的材料還達到或超過了低煙霧產(chǎn)生和小有毒副產(chǎn)物的測試標準。


有掩膜光刻機

1.手動、半自動、全自動有掩膜光刻機$r$n2.高分辨率掩模對準光刻,

無掩膜/激光直寫光刻機

無掩膜/激光直寫光刻機 參數(shù):1. 光源:375 nm、385 nm、

電子束光刻系統(tǒng)

電子束光刻系統(tǒng) 技術(shù)參數(shù):$r$n1.最小線寬≤8nm 光柵周期

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