目錄:廣州金程科學(xué)儀器有限公司>>等離子表面處理儀>>等離子去膠機(jī)>> SPB5/SPB5plus表面處理儀等離子去膠機(jī)
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 能源,電子,電氣,綜合 |
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廣州金程科學(xué)儀器公司供應(yīng)的表面處理儀等離子去膠機(jī)，等離子去膠機(jī)采用電感耦合各向同性(各個方向)等離子激發(fā)方式，適用于所有的基材及復(fù)雜的幾何構(gòu)形都可以進(jìn)行等離子體去膠。
等離子去膠機(jī)特別適合于大學(xué)，科研院所和微電子、半導(dǎo)體企業(yè)實驗室，對電路板、外延片、芯片、環(huán)氧基樹脂、MEMS制造過程中犧牲層，干刻或濕刻處理前或后，對基材進(jìn)行聚合物剝離、金屬剝離、掩膜材料等光刻膠去除，以及晶圓表面預(yù)處理等。
等離子去膠機(jī)其外觀美學(xué)設(shè)計，結(jié)構(gòu)緊湊，漂亮大氣，優(yōu)化的腔體結(jié)構(gòu)及合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得處理樣品量更大，適用范圍更廣，性能更穩(wěn)定，操作更簡便，性價比更高，使用成本更低，實用性更強，更容易維護(hù)。
等離子去膠機(jī)原理：
等離子去膠機(jī)原理同等離子清洗類似，主要通過氧原子核和光刻膠在等離子體環(huán)境中發(fā)生反應(yīng)來去除光刻膠，由于光 刻膠的基本成分是碳?xì)溆袡C(jī)物，在射頻或微波作用下，工藝氣體氧氣電離成氧原子并與光刻膠發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成一氧化碳， 二氧化碳和水等，再通過泵被真空抽走，完成光刻膠的去除。在反應(yīng)氣體中加入氮氣或者氫氣可以提高去膠性能、加強對 殘留物的去除。與傳統(tǒng)的化學(xué)去膠方法相比，等離子去膠機(jī)具有更高的清潔效率和更少的環(huán)境污染。
等離子去膠機(jī)特點：
7寸彩色觸摸屏互動操作界面，自動控制監(jiān)測工藝參數(shù)狀態(tài)，20個配方程序，工藝數(shù)據(jù)可存儲追溯。
PLC工控機(jī)控制整個去膠過程，手動、自動兩種工作模式。
石英真空艙，全真空管路系統(tǒng)采用316不銹鋼材質(zhì)，耐腐蝕無污染。
可選用石英舟，更適合晶元硅片去膠應(yīng)用。
采用花灑式多孔道進(jìn)氣方式，改變單孔進(jìn)氣不均勻問題。
采用防腐數(shù)字流量計，實現(xiàn)對氣體輸入精準(zhǔn)控制。標(biāo)配雙路氣體輸送系統(tǒng)，可選多氣路氣體輸送系統(tǒng)，氣體分配均勻。 可輸入氧氣、氬氣、氮氣、氫氣或混合氣等氣體。
HEPA 高效過濾，氣體返填吹掃，防止二次污染。
處理高效均勻，效率高，工藝重復(fù)性好。
樣品處理溫度低，無熱損傷和熱氧化。
安全保護(hù)，艙門打開，自動關(guān)閉電源，機(jī)器運行、停止提示。
技術(shù)參數(shù)：
型號 | SPB5 | SPB5plus |
艙體尺寸 | D300xφ150mm | D300xφ150mm |
艙體容積 | 5.2L | 5.2L |
艙體材質(zhì) | 石英玻璃 | 石英玻璃 |
射頻電源 | 40KHz | 13.56MHz |
匹配器 | 自動匹配 | 自動匹配 |
激發(fā)方式 | 電感耦合(ICP) | 電感耦合(ICP) |
射頻功率 | 0-1000W可調(diào) | 0-300W可調(diào)(可選0-600W) |
最大處理尺寸 | φ150m | φ150m |
氣體控制 | 質(zhì)量流量計(MFC) (標(biāo)配單路，可選雙路)流量范圍0-500SCCM(可調(diào)) | |
工藝氣體 | Ar、N? 、O? 、H?或其他混合氣體等(可選) | |
時間設(shè)定 | 1-99分59秒 | |
真空泵 | 抽速約8m3/h | |
氣體穩(wěn)定時間 | 1分鐘 | |
極限真空 | ≤1Pa | |
產(chǎn)品尺寸 | L550xW550xH420mm | |
包裝尺寸 | L650xW610xH620mm | |
電源 | AC220V 50/60Hz,1152/452(752)W所有配線符合《低壓配電設(shè)計規(guī)范 GB50054-95》、《低壓配電裝置及線路設(shè)計規(guī)范》等國標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)相關(guān)規(guī)定。 | |
整機(jī)重量 | 52kg | |
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