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安捷倫科技(中國(guó))有限公司

材料-制造-封裝 | 安捷倫推出全半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈解決方案

時(shí)間:2022-9-1 閱讀:946
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半導(dǎo)體是現(xiàn)代電子產(chǎn)品的核心,應(yīng)用于從智能手機(jī)到汽車等眾多領(lǐng)域。隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展,各種器件變得更小、更快、更可靠、更強(qiáng)大。為解決高昂的成本問題,半導(dǎo)體制造過程中的產(chǎn)品良率是半導(dǎo)體廠商關(guān)注的問題。影響產(chǎn)品良率的因素有很多,污染無(wú)疑是其中的重要因素之一。業(yè)內(nèi)人士估計(jì),污染造成約  50%  的產(chǎn)量損失。


從上世紀(jì) 70 年代到今天,芯片制程已經(jīng)從“微米"時(shí)代,經(jīng)過“納米"時(shí)代,發(fā)展到當(dāng)前的 10 納米以下。隨著元件縮小到單個(gè)納米尺度,污染物和雜質(zhì)的控制變得越來(lái)越重要,因?yàn)榧词故浅哿课廴疚镆矔?huì)降低制造產(chǎn)量,導(dǎo)致產(chǎn)品可靠性下降或產(chǎn)品故障。半導(dǎo)體和電子產(chǎn)品中的雜質(zhì)分析必須貫穿整個(gè)制造過程的各個(gè)階段,從測(cè)試晶片、原材料和工藝化學(xué)品到終產(chǎn)品的質(zhì)量保證 / 質(zhì)量控制。另外,在半導(dǎo)體全產(chǎn)業(yè)鏈的裝置制造、傳感器制造、控制器件制造過程等先進(jìn)制造環(huán)節(jié),真空的控制也至關(guān)重要。


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自 20 世紀(jì) 80 年代后期以來(lái),安捷倫一直與領(lǐng)先于行業(yè)的半導(dǎo)體制造商和化學(xué)品供應(yīng)商密切合作,開發(fā)適用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的分析和監(jiān)測(cè)技術(shù),應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)的分析挑戰(zhàn),并始終處于創(chuàng)新前沿。作為全球半導(dǎo)體領(lǐng)域的先鋒,安捷倫積累了大量創(chuàng)新技術(shù)和卓越的服務(wù)能力。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的制程監(jiān)測(cè)、原材料質(zhì)控、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、納米顆粒、有機(jī)雜質(zhì)檢測(cè)、符合環(huán)境健康和安全法規(guī)需求以及真空檢漏等方面,都能夠?yàn)槟峁﹥?yōu)異的分析儀器、軟件、服務(wù)和支持,助力您取得成功。



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ICP-MS 作為一種金屬元素分析儀器應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈,始于 20 世紀(jì) 80 年代。隨著半導(dǎo)體制程的不斷迭代,整個(gè)行業(yè)對(duì) ICP-MS 的性能提出了越來(lái)越高的要求。過去 30 年來(lái),位于日本東京的安捷倫 ICP-MS 全球研發(fā)中心與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈端客戶密切合作,引領(lǐng)著 ICP-MS 在全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的應(yīng)用不斷創(chuàng)新。

監(jiān)測(cè)清洗和蝕刻硅片過程中使用的化學(xué)品中的痕量污染物

監(jiān)測(cè)晶圓 /IC 制造過程中使用的化學(xué)品中的污染物

評(píng)估硅片襯底及用于硅的相關(guān)層和涂層中的金屬污染

化學(xué)品以及晶圓加工和清潔浴槽中的金屬納米顆粒 (NP) 分析

半導(dǎo)體供應(yīng)鏈中電子化學(xué)品 / 特氣中的金屬污染物

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晶圓表面有機(jī)污染物分析

高純化學(xué)品及純水中有機(jī)雜質(zhì)分析

清洗劑 / 剝離液 / 電鍍液雜質(zhì)分析

化學(xué)品中有機(jī)物成分分析 / 配方剖析,如光刻膠、CMP Slurry 配方分析

過濾器等半導(dǎo)體工藝部件的污染物控制

半導(dǎo)體超凈室內(nèi)的揮發(fā)性有機(jī)污染物分析

按照法規(guī)要求(例如 RoHS、REACH 等)測(cè)定電子電氣中的有害有機(jī)物

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CPU、RAM 等終端設(shè)備中鍍膜硅片透射 / 散射 / 反射等光學(xué)性能測(cè)試

晶圓涂層表面的光學(xué)性能表征,評(píng)估涂層均勻性等性能

借助光學(xué)性能測(cè)試結(jié)果,確定并克服涂層工藝中潛在的變異性

使用配備固體自動(dòng)進(jìn)樣器的 Agilent Cary 7000 全能型分光光度計(jì) (UMS) 對(duì)涂層晶圓的光學(xué)性能進(jìn)行分析

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服務(wù)于半導(dǎo)體市場(chǎng)以及其上游供應(yīng)商的整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈。提供真空泵(油泵、干泵)、檢漏儀、真空計(jì)、真空管路配件、閥門等產(chǎn)品,適用范圍包括 :

半導(dǎo)體制造、封裝設(shè)備、檢測(cè)設(shè)備

晶體生長(zhǎng)、外延設(shè)備

高純氣體管路檢測(cè)及安全性保障

傳感器氣密性檢漏

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