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九域半導(dǎo)體科技(蘇州)有限公司
中級(jí)會(huì)員 | 第2年

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  • 非接觸霍爾遷移率

    在霍爾效應(yīng)傳感器中,自由電子的移動(dòng)能力通過遷移率來量化,這是衡量電子在材料中移動(dòng)難易程度的關(guān)鍵指標(biāo)。遷移率典型范圍一般在5至50平方厘米/伏秒之間詳情介紹?我公...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 14:17:13 對(duì)比
    非接觸霍爾遷移率微波法電阻率半導(dǎo)體
  • 微波法霍爾遷移率

    在霍爾效應(yīng)傳感器中,自由電子的移動(dòng)能力通過遷移率來量化,這是衡量電子在材料中移動(dòng)難易程度的關(guān)鍵指標(biāo)。遷移率典型范圍一般在5至50平方厘米/伏秒之間

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 14:14:43 對(duì)比
    微波法非接觸霍爾遷移率半導(dǎo)體遷移率
  • 微波法少子壽命

    即少數(shù)載流子壽命。光生電子和空穴從一開始在半導(dǎo)體中產(chǎn)生直到消失的時(shí)間稱為壽命。載流子壽命就是指非平衡載流子的壽命。而非平衡載流子一般也就是非平衡少數(shù)載流子(因?yàn)?..

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 14:12:48 對(duì)比
    少子壽命渦流法非接觸式方阻電阻率
  • 外延電阻率方阻測(cè)試儀

    外延電阻率方阻測(cè)試儀:外延是半導(dǎo)體工藝當(dāng)中的一種。在bipolar工藝中,硅片最底層是P型襯底硅(有的加點(diǎn)埋層);然后在襯底上生長(zhǎng)一層單晶硅,這層單晶硅稱為外延...

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    外延片電阻率方阻測(cè)試儀渦流法電阻率半導(dǎo)體
  • 襯底電阻率方阻測(cè)試儀

    襯底電阻率方阻測(cè)試儀:襯底,或稱基片(substrate),是指在半導(dǎo)體器件制造過程中用來支持其他材料或結(jié)構(gòu)的底層材料。襯底的物理性質(zhì)包括其晶體結(jié)構(gòu)、機(jī)械強(qiáng)度、...

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    襯底電阻率方阻渦流法四探針
  • 玻璃方阻測(cè)試儀

    玻璃方阻測(cè)試儀應(yīng)用ITO導(dǎo)電玻璃的時(shí)候,往往會(huì)提到一個(gè)重要的參數(shù),這個(gè)參數(shù)就是:方阻,也稱方塊電阻。同時(shí),我們也可以將其理解為ITO的表面電阻率。

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 14:06:48 對(duì)比
    玻璃方阻渦流法電阻率晶圓缺陷
  • 金屬薄膜方阻測(cè)試儀

    金屬薄膜方阻測(cè)試儀:金屬薄膜方阻,方塊電阻又稱膜電阻,是用于間接表征薄膜膜層、玻璃鍍膜膜層等樣品上的真空鍍膜的熱紅外性能的測(cè)量值,該數(shù)值大小可直接換算為熱紅外輻...

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    技術(shù)薄膜方阻渦流法非接觸晶圓缺陷
  • 氧化鎵電阻率方阻測(cè)試儀

    氧化鎵電阻率方阻測(cè)試儀:Ga2O3是一種透明的氧化物半導(dǎo)體材料,在光電子器件方面有廣闊的應(yīng)用前景,被用作于Ga基半導(dǎo)體材料的絕緣層,以及紫外線濾光片。它還可以用...

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    氧化鎵電阻率渦流法晶圓缺陷方阻
  • 氮化鎵電阻率方阻測(cè)試儀

    氮化鎵電阻率方阻測(cè)試儀:氮化鎵是一種無機(jī)物,化學(xué)式GaN,是氮和鎵的化合物,是一種直接能隙(direct bandgap)的半導(dǎo)體,自1990年起常用在發(fā)光二極...

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    氮化鎵電阻率方阻渦流法半導(dǎo)體
  • 碳化硅電阻率方阻測(cè)試儀

    碳化硅電阻率方阻測(cè)試儀:1、電阻率ρ不僅和導(dǎo)體的材料有關(guān),還和導(dǎo)體的溫度有關(guān)。在溫度變化不大的范圍內(nèi):幾乎所有金屬的電阻率隨溫度作線性變化,即ρ=ρ0(1+at...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 13:57:42 對(duì)比
    碳化硅電阻率渦流法方阻四探針
  • 晶圓電阻率測(cè)試儀

    晶圓電阻率測(cè)試儀:電阻率(resistivity)是用來表示各種物質(zhì)電阻特性的物理量。在溫度一定的情況下,有公式R=ρl/S,其中ρ就是電阻率,l為材料的長(zhǎng)度,...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 13:55:39 對(duì)比
    晶圓電阻率晶圓缺陷渦流法方阻
  • 硅片電阻率測(cè)試儀

    硅片電阻率測(cè)試儀:電阻率(resistivity)是用來表示各種物質(zhì)電阻特性的物理量。在溫度一定的情況下,有公式R=ρl/S,其中ρ就是電阻率,l為材料的長(zhǎng)度,...

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    硅片電阻率渦流法方阻半導(dǎo)體
  • 無損電阻率測(cè)試儀

    非接觸式單點(diǎn)薄層電阻測(cè)量系統(tǒng)。該裝置包含一個(gè)渦流傳感器組,感應(yīng)弱電流到導(dǎo)電薄膜和材料。非接觸式薄膜方塊電阻測(cè)量?jī)x試樣中的感應(yīng)電流產(chǎn)生與測(cè)量對(duì)象的片電阻相關(guān)的電磁...

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    電阻率晶圓缺陷無損方阻渦流法
  • 表面光電壓JPV\SPV

    表面光電壓法(Surface Photovoltage Method,簡(jiǎn)稱SPV法)是通過測(cè)量由于光照在半導(dǎo)體材料表面產(chǎn)生的表面電壓來獲得少數(shù)載流子擴(kuò)散長(zhǎng)度的方...

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    表面光電壓儀JPV\SPVJPVSPV半導(dǎo)體方塊電阻
  • 無損方塊電阻測(cè)試儀

    無損方塊電阻測(cè)試儀包含一個(gè)渦流傳感器組,感應(yīng)弱電流到導(dǎo)電薄膜和材料。非接觸式薄膜方塊電阻測(cè)量?jī)x試樣中的感應(yīng)電流產(chǎn)生與測(cè)量對(duì)象的片電阻相關(guān)的電磁場(chǎng)。電渦流技術(shù)不依...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 13:47:11 對(duì)比
    無損方塊電阻方阻電阻率非接觸
  • 晶錠非接觸方阻測(cè)試儀

    晶錠非接觸方阻測(cè)試儀:晶錠,也叫單晶硅棒,是一種純硅材料,在電子工業(yè)中被廣泛應(yīng)用。晶錠是一種長(zhǎng)條狀的半導(dǎo)體材料,通常采用Czochralski法或發(fā)明家貝爾曼的...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 13:42:49 對(duì)比
    晶錠非接觸方阻無損方塊電阻
  • 晶錠渦流法電阻率測(cè)試儀

    晶錠渦流法電阻率測(cè)試儀:電阻率是用來表示各種物質(zhì)電阻特性的物理量。某種物質(zhì)所制成的原件(常溫下20°C)的電阻與橫截面積的乘積與長(zhǎng)度的比值叫做這種物質(zhì)...

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    晶錠渦流法電阻率非接觸無損方阻
  • 遷移率(霍爾)測(cè)試儀

    霍爾遷移率(Hall mobility)是指?Hall系數(shù)RH與?電導(dǎo)率σ的乘積,即│RH│σ,具有遷移率的量綱?。其表達(dá)式為μH =│RH│σ。?12定義和計(jì)...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 13:38:20 對(duì)比
    霍爾遷移率非接觸渦流法方阻渦流法電阻率
  • 渦流法方阻測(cè)試儀

    ??渦流法方阻測(cè)試儀的方阻是指一個(gè)正方形?薄膜導(dǎo)電材料邊到邊的電阻?,也稱為方塊電阻或?膜電阻。方阻是衡量薄膜狀導(dǎo)電材料(如?蒸發(fā)鋁膜、?導(dǎo)電漆膜、印制電路板銅...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 13:36:26 對(duì)比
    渦流法方阻方塊電阻無損非接觸電阻率
  • 汞CV測(cè)試MCV測(cè)試儀

    是一款汞探針CV自動(dòng)圖形掃描測(cè)量系統(tǒng)。它使用高頻CV測(cè)量分析系統(tǒng),可以對(duì)75mm、100mm、125mm、150mm、200mm(以及300mm)直徑的測(cè)試片進(jìn)...

    型號(hào): 所在地:蘇州市參考價(jià): 面議更新時(shí)間:2025/1/16 13:34:49 對(duì)比
    汞CV測(cè)試MCV測(cè)試儀渦流法非接觸無損

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