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Hitachi日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU9000

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更新時(shí)間:2020-08-19 16:56:08瀏覽次數(shù):756

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Hitachi日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU9000
日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需大300萬倍穩(wěn)定觀察的*半導(dǎo)體器件,高分辨成像所設(shè)計(jì)。新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。

詳細(xì)介紹

Hitachi日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU9000

 

日立SU9000超高分辨冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡,達(dá)到掃描電鏡二次電子分辨率0.4nm和STEM分辨率0.34nm。日立SU9000采取了全新改進(jìn)的真空系統(tǒng)和電子光學(xué)系統(tǒng),不僅分辨率性能明顯提升,而且作為一款冷場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡甚至不需要傳統(tǒng)意義上的Flashing操作,可以高效率的快速獲取樣品超高分辨掃描電鏡圖像。

日立高新超高分辨率場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡SU9000是專門為電子束敏感樣品和需大300萬倍穩(wěn)定觀察的*半導(dǎo)體器件,高分辨成像所設(shè)計(jì)。
新的電子槍和電子光學(xué)設(shè)計(jì)提高了低加速電壓性能。
0.4nm / 30kV(SE)
1.2nm / 1kV(SE)
0.34nm / 30kV(STEM)
用改良的高真空性能和的電子束穩(wěn)定性來實(shí)現(xiàn)高效率截面觀察。


Hitachi日立高新場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡SU9000

采用全新設(shè)計(jì)的Super E x B能量過濾技術(shù),高效,靈活地收集SE / BSE/ STEM信號(hào)。

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