Pluto-MD等離子去膠機

產(chǎn)品介紹 ：

去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程，在電子束曝光，紫外曝光等微納米加工工藝后，都要對光刻膠進(jìn)行去除或打底膜處理。光刻膠是否去除干凈對樣片是否有損傷等問題，將直接影響后續(xù)工藝的順利完成。PLUTO-MD使用性能出色的組件和軟件，可對工藝參數(shù)進(jìn)行精細(xì)控制。它的工藝監(jiān)測和數(shù)據(jù)采集軟件可實現(xiàn)嚴(yán)格的質(zhì)量控制。該技術(shù)已經(jīng)成功的應(yīng)用于功率晶體管、模擬器件、傳感器、光學(xué)器件、光電、EMS/MOEMS、生物器件、LED等領(lǐng)域。

產(chǎn)品性能：

經(jīng)過真空檢漏316不銹鋼腔體， 具備更好密封性能和保壓能力

5L腔體，雙層電極，離子密度可控

13.5EMHz射頻等離子源，兼容物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)，覆蓋全部樣品種類

等離子去膠機

創(chuàng)新可調(diào)電極，可以調(diào)整有效處理面積中等離子體的能量密度

標(biāo)配兩路氣體，適應(yīng)更多用戶需求。

采用電容觸摸屏，全數(shù)字控制。

全手動控制和預(yù)設(shè)工藝參數(shù)自動運行

武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā)，以力學(xué)試驗機儀器為主，同時銷售各種、中低端分析儀器。現(xiàn)有員工60多人，公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件，并采用全數(shù)字化，操作簡捷，*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求，公司亦通過了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國家計量體系認(rèn)證，榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位”的稱號。武漢賽斯特精密儀器有限公司是武漢市專業(yè)研發(fā)，以力學(xué)試驗機儀器為主，同時銷售各種、中低端分析儀器?，F(xiàn)有員工60多人，公司成功開發(fā)了PCI放大采集卡和中文版試驗軟件，并采用全數(shù)字化，操作簡捷，*符合GB、ISO、JIS、ASTM、DIN等標(biāo)準(zhǔn)、國家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的要求，公司亦通過了ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證和國家計量體系認(rèn)證，榮獲了“武漢市第九界消費者滿意單位”的稱號。