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目錄:鄭州科探儀器設(shè)備有限公司>>實(shí)驗(yàn)室搭建>>PECVD 射頻模塊>> 上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積

上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積
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參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 品牌 鄭科探
  • 型號(hào)
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 鄭州市
屬性

應(yīng)用領(lǐng)域:電子

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更新時(shí)間:2023-12-21 10:32:17瀏覽次數(shù):1737評(píng)價(jià)

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上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡(jiǎn)單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

PECVD簡(jiǎn)介

   上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。

  上海實(shí)驗(yàn)室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡(jiǎn)單,與傳統(tǒng)CVD系統(tǒng)比較,生長溫度更低,管輝光均勻等效,薄膜均勻沉積。

上海實(shí)驗(yàn)室PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積

KT-PE150S  性能數(shù)

型號(hào)

KT-PE150S

KT-PE500Z

號(hào)

13.56MHz±0.005%

出范

0-150W

0-500W

功率穩(wěn)定度

5W

射功

40W

出接

7/16,female  50 Ω

穩(wěn)定度

5W

匹配方式

手動(dòng)調(diào)節(jié)匹配

500W自動(dòng)匹配

耦合方式

電感式耦合

輝光壓力

30Pa

50/60Hz 220v±10%

機(jī)

70%

強(qiáng)制風(fēng)冷

支持爐管直徑

φ25-φ80

φ25-φ150

感應(yīng)區(qū)

210mm

機(jī)

48KG

機(jī):H x W x D(mm)

600 x 600x 1100



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