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研究型硅片檢測(cè)顯微鏡

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  • 型號(hào) WMZ-9190
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
  • 所在地 上海市
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更新時(shí)間:2020-03-03 16:00:52瀏覽次數(shù):552

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WMZ-9190研究型硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭. 本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的"金字塔" 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器.

詳細(xì)介紹

    研究型硅片檢測(cè)顯微鏡

   一、用途

WMZ-9190研究型硅片檢測(cè)顯微鏡是適用于對(duì)太陽(yáng)能電池硅片的顯微觀察。本儀器配有大移動(dòng)范圍的載物臺(tái)、落射照明器、長(zhǎng)工作距離的平場(chǎng)消色差物鏡、大視野目鏡,圖像清晰、襯度好,同時(shí)配有偏光裝置,及其高像素的數(shù)碼攝像頭. 本儀器配有暗場(chǎng)物鏡,使觀察硅片時(shí)圖像更加清晰,是檢測(cè)太陽(yáng)能電池硅片的金字塔 的微觀形貌分布情況,及硅片的缺陷分析的理想儀器

WMZ-9190硅片檢測(cè)顯微鏡可以觀察到肉眼難觀測(cè)的位錯(cuò)、劃痕、崩邊等;還可以對(duì)硅片的雜質(zhì)、殘留物成分分析.雜質(zhì)包括顆粒、有機(jī)雜質(zhì)、無(wú)機(jī)雜質(zhì)、金屬離子、硅粉粉塵等,造成磨片后的硅片易發(fā)生變花、發(fā)藍(lán)、發(fā)黑等現(xiàn)象,使磨片不合格太陽(yáng)能電池硅片生產(chǎn)過程中必不可少的檢測(cè)儀器之一.

 

配置參數(shù)

標(biāo)準(zhǔn)配置

目鏡

大視野 WF10X(視場(chǎng)數(shù)Φ22mm)

 

無(wú)限遠(yuǎn)長(zhǎng)工作距離平場(chǎng)消色差物鏡

PL L5X/0.12    工作距離:26.1 mm

PL L10X/0.25   工作距離:20.2 mm

PL L40X/0.60   工作距離:3.98 mm

PL L60X/0.70   工作距離:3.18 mm

PL L100X/0.90  工作距離:2.2 mm  (干式)

目鏡筒

30?傾斜,瞳距調(diào)節(jié)范圍53~75mm. 

調(diào)焦機(jī)構(gòu)

粗微動(dòng)同軸調(diào)焦,帶鎖緊和限位裝置,微動(dòng)格值:2μm.

轉(zhuǎn)換器

五孔(內(nèi)向式滾珠內(nèi)定位) 

載物臺(tái)

雙層機(jī)械移動(dòng)式載物臺(tái), 外形尺寸:210mmX140mm,移動(dòng)范圍:63mmX50mm

落射照明系統(tǒng)

6V30W鹵素?zé)簦炼瓤烧{(diào)

配置黃、藍(lán)、綠濾色片與磨砂玻璃片

內(nèi)置視場(chǎng)光欄、孔徑光欄、濾色片轉(zhuǎn)換裝置、推拉式檢偏器與起偏器

透射照明系統(tǒng)

阿貝聚光鏡NA.1.25可上下升降

集光鏡中內(nèi)置視場(chǎng)光欄

配置藍(lán)濾色片與磨砂玻璃片

6V30W鹵素?zé)簟⒘炼瓤烧{(diào)

防霉

*防霉系統(tǒng)

 

 

系統(tǒng)組成

電腦型(WMZ-9190C)

1.硅片檢測(cè)顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器(CCD) 4.計(jì)算機(jī)(選購(gòu)) 

數(shù)碼型(WMZ-9190D)

1、硅片檢測(cè)顯微鏡 2、適配鏡 3、數(shù)碼相機(jī)(選購(gòu))

可選配件

目鏡

分劃目鏡10X(Φ22mm)

物鏡

明場(chǎng)物鏡 20X、50X、80X

CCD接頭

0.5X、1X、0.5X帶分劃尺

攝像儀

USB輸出:130/300/500/1000萬(wàn)像素

數(shù)碼相機(jī)接頭

CANON(EF) NIKON(F)

分析軟件

二維圖像測(cè)量分析軟件

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