PHI 硬X射線光電子能譜儀 參考價：面議
PHI 硬X射線光電子能譜儀，下一代透明發(fā)光材料使用直徑約為10nm~50nm 的納米量子點(QDs)，結合使用 XPS(Al Ka X射線)和 HAXPES(...
俄歇電子能譜儀 參考價：面議
PHI公司的PHI 710俄歇電子能譜儀是一臺設計高性能的俄歇電子能譜（AES）儀器。該設備能分析納米級特征區(qū)域,超薄薄膜和多層結構表界面的元素態(tài)和化學態(tài)信息。
飛行時間二次離子質譜儀 參考價：面議
飛行時間二次離子質譜儀PHI nano TOF3+，先進的多功能TOF-SIMS具有更強大的微區(qū)分析能力，更加出色的分析精度
PHI X射線光電子能譜儀 參考價：面議
PHI X射線光電子能譜儀 提供了一種全新的用戶體驗，儀器高性能、全自動化、簡單易操作。 操作界面可在同一個屏幕內設置常規(guī)和高級的多功能測試參數(shù)，同時保留諸如進...
C60-40 離子源系統(tǒng) 參考價：面議
C60-40 離子源系統(tǒng) 是目前性能較高的C60光束，具有300納米的光斑尺寸和高達1毫安的束流。從生物醫(yī)學應用到聚合物科學和冶金，C60-40都可以做到這一點...
C60-20 離子源系統(tǒng) 參考價：面議
lonoptika公司的C60-20 離子源系統(tǒng)是一種高性能的20kV離子束系統(tǒng)，用于高化學復雜性樣品的SIMS分析。C60-20是一種功能強大，成本效益高的分...
C60-20S 離子源系統(tǒng) 參考價：面議
C60-20S 離子源系統(tǒng)雖然所有離子束都會濺射或蝕刻，但我們的一些系統(tǒng)的表面是專為高效和快速濺射而設計的。濺射光束有三個特點：高電流、大光斑尺寸和寬視場。這些...
GCIB-10S 離子源系統(tǒng) 參考價：面議
GCIB-10S 離子源系統(tǒng)是一種高性能10千伏氣體團簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實時集群大小...
GCIB-40 離子源系統(tǒng) 參考價：面議
GCIB-40 離子源系統(tǒng)是一種40 kV氣體團簇離子束，產(chǎn)生團簇離子聚焦束，用于需要對分子離子敏感的分析應用。GCIB在較大程度地減少碎片和從表面去除完整分子...
GCIB-70 離子源系統(tǒng) 參考價：面議
GCIB-70 離子源系統(tǒng)是一種70 kV高性能氣體團簇離子束，可產(chǎn)生高度聚焦的團簇離子束，用于高分辨率成像SIM，具有沒有可以比較的的靈敏度。在SIMS中使用...
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