應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

SAXS

緊湊型實(shí)驗(yàn)室 SAXS 系統(tǒng)

能夠隨時(shí)在 3.6 x 0.9 m 的占地面積上使用小角 X 射線散射研究納米材料（尺寸、形狀、內(nèi)部結(jié)構(gòu)、比表面等），無(wú)需等待昂貴的同步加速器檔期。優(yōu)化您的射線時(shí)間并研究不穩(wěn)定的樣品，避免運(yùn)輸隱患。
安東帕精確且可靠的解決方案為 SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 納米結(jié)構(gòu)材料的日常研究提供了出色的分辨率和的數(shù)據(jù)質(zhì)量。強(qiáng)大的儀器系統(tǒng)使用了 X 射線以及無(wú)散射光束準(zhǔn)直，并且配備了多種樣品臺(tái)以滿足多種不同應(yīng)用。

SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 實(shí)驗(yàn)室光束線裝置：
SAXSpoint 5.0

緊湊型占地 3.6 m x 0.9 m
研究納米材料（例如尺寸、形狀、內(nèi)部結(jié)構(gòu)）
非破壞性測(cè)量技術(shù)
直接在原生生物環(huán)境中測(cè)量樣品
優(yōu)化同步加速器的測(cè)量

SAXSpoint 5.0 是采用同步加速器探測(cè)器技術(shù)的 SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 實(shí)驗(yàn)室光束線，可在緊湊型系統(tǒng)中實(shí)現(xiàn)更高分辨率。安東帕出色的 SAXS 系統(tǒng)，可解析高達(dá) 620 nm 的納米結(jié)構(gòu)。SAXSpoint 5.0 能夠在室溫環(huán)境和非室溫環(huán)境條件下分析幾乎所有的材料，靈活性好。SAXSpoint 5.0 配備了許多附加的可選功能，適合可達(dá)微米范圍 (USAXS) 的潛在應(yīng)用。通過(guò)功能強(qiáng)大的軟件包，可以自動(dòng)進(jìn)行操作和數(shù)據(jù)分析，輕松實(shí)現(xiàn)材料特性的無(wú)損研究。

在極短測(cè)量時(shí)間內(nèi)提供出色的數(shù)據(jù)質(zhì)量

SAXSpoint 5.0 采用高亮度 X 射線束，該射線束擁有高光譜純度和無(wú)散射光束準(zhǔn)直。配備強(qiáng)大的微焦斑光源或 MetalJet X 射線源和高性能光學(xué)元件，可在更短的曝光時(shí)間內(nèi)提供出色的測(cè)量結(jié)果。結(jié)合更新的混合光子計(jì)數(shù) (HPC) 探測(cè)器，可確保獲得高質(zhì)量的 SAXS/WAXS/GISAXS/USAXS/RheoSAXS 結(jié)果，以實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)材料分析。通過(guò)這種出色的設(shè)置，可以實(shí)現(xiàn)更好的分辨率，并以同類(lèi)產(chǎn)品中較緊湊的系統(tǒng)尺寸（3.6 x 0.9 m）解析高達(dá) 620 nm（USAXS 為不超過(guò)微米范圍）的結(jié)構(gòu)。

一次性獲得 SAXS 和 WAXS 數(shù)據(jù)

SAXSpoint 5.0 具有移動(dòng)探測(cè)器 Slidemaster，可在非常寬的 q 范圍內(nèi)進(jìn)行全自動(dòng) X 射線散射研究。一次性獲得 SAXS 和 WAXS 數(shù)據(jù)，無(wú)需重新校準(zhǔn)系統(tǒng)。只需移動(dòng)探測(cè)器，即可為每次實(shí)驗(yàn)選擇更好的 q 范圍，從高 SAXS 分辨率到寬 WAXS 范圍。
SAXSpoint 5.0 為您的測(cè)量提供自動(dòng)光束選擇和定位。由于集成了更新的 EIGER2 R 探測(cè)器，因此可以進(jìn)行無(wú)窗口和無(wú)光束遮擋測(cè)量。

SAXS 分析有難度嗎？使用 SAXSpoint 5.0 不是為了

自動(dòng)完成日常測(cè)量工作，加快測(cè)量速度，而是 SAXSpoint 5.0 實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)性能。SAXSpoint 5.0 配備了 Stagemater，可以自動(dòng)校準(zhǔn)所有 X 射線部件和樣品臺(tái)，識(shí)別安裝的樣品臺(tái)，并相應(yīng)地配置系統(tǒng)。這為您的測(cè)量設(shè)置提供更佳的可能結(jié)果。使用低容量液體自動(dòng)進(jìn)樣器實(shí)現(xiàn)樣品通量自動(dòng)化，最多可容納 192 個(gè)樣品，并配有溫控孔板隔室，用于在儲(chǔ)存期間冷卻和加熱樣品。

選擇樣品臺(tái)：同一系統(tǒng)適用于所有實(shí)驗(yàn)條件

幾乎任何的納米結(jié)構(gòu)材料都可以使用安東帕的各種樣品臺(tái)進(jìn)行分析。使用 TrueFocus 可以輕松、快速地在不同的樣品臺(tái)之間切換，確保自動(dòng)校準(zhǔn)所有組件。

TCStage樣品臺(tái)裝置：在 -150 °C 到 600 °C 范圍內(nèi)進(jìn)行控溫研究
濕度樣品臺(tái)：在規(guī)定的相對(duì)濕度和溫度條件下進(jìn)行分析
GISAXS/GIXD 樣品臺(tái)：納米結(jié)構(gòu)表面和薄膜研究
加熱/冷卻多位樣品臺(tái)：利用溫控的多位臺(tái)進(jìn)行自動(dòng)研究
Tensile 樣品臺(tái)：在規(guī)定的機(jī)械載荷下，分析納米結(jié)構(gòu)纖維
RheoSAXS 模塊：一次性進(jìn)行完整的流變和納米結(jié)構(gòu)研究

功能強(qiáng)大的控制和數(shù)據(jù)分析軟件

SAXS 數(shù)據(jù)分析很復(fù)雜。直觀的 SAXSdrive™ 和 SAXSanalysis™ 軟件解決方案是獲得結(jié)果的方法。支持自動(dòng)執(zhí)行常規(guī)程序步驟，如測(cè)量設(shè)置和校準(zhǔn)，以及綜合數(shù)據(jù)分析。設(shè)置連續(xù)測(cè)量，利用自動(dòng)進(jìn)樣、溫度掃描和時(shí)間相關(guān)研究，并使用可定制的模板來(lái)分析 1D 和 2D 數(shù)據(jù)集。測(cè)定回轉(zhuǎn)半徑 (RG)、粒徑、Porod 常數(shù)、比表面積、Kratky 曲線等參數(shù)是 SAXSanalysis™ 的標(biāo)準(zhǔn)功能。

技術(shù)規(guī)格

X 射線源	Primux 100 micro 微焦斑 X 射線源（Cu、Mo；可根據(jù)需求提供其他靶材）可選的雙微焦斑 X 射線源（Cu、Mo；可根據(jù)需求提供其他靶材）高性能 Ga /In MetalJet 光源
X 射線光學(xué)元件和準(zhǔn)直系統(tǒng)	定制的 ASTIX 光學(xué)元件（全真空）自動(dòng)無(wú)散射光束準(zhǔn)直（全真空）
樣品臺(tái)和自動(dòng)進(jìn)樣器	TCStage 溫控臺(tái)（-150 °C 至 600 °C）具有加熱/冷卻選件（-150 °C 至 500 °C）的 GISAXS 樣品臺(tái) 具有加熱/冷卻選件（-150 °C 至 350 °C）的拉伸樣品臺(tái) 濕度樣品臺(tái) 適用于多個(gè)樣品的溫控自動(dòng)進(jìn)樣器（-150 °C 至 350 °C） RheoSAXS 模塊剪切臺(tái) 適用于多達(dá) 192 個(gè)液體樣品的 ASX 自動(dòng)進(jìn)樣器根據(jù)需求提供的定制樣品臺(tái)
特殊功能	Slidemaster：移動(dòng)探測(cè)器（X、Y、Z 方向平移） TrueFocus：自動(dòng)自校準(zhǔn) TrueSWAXS：連續(xù)和同時(shí) SWAXS 研究 Stagemaster：XYZ 臺(tái)，自動(dòng)識(shí)別樣品臺(tái) 可選高分辨率 WAXS 模塊可選高性能光學(xué)器件，提供 X 射線通量 >4 X 10 8 ph/s
溫度范圍	-150 °C 至 +600 °C
溫度準(zhǔn)確度	0.1 °C
氣氛	真空、空氣、惰性氣體、濕度（根據(jù)需求也可以是反應(yīng)性氣體）
樣品架	液體用石英毛細(xì)管低噪音 SiN 樣品槽固體樣品槽粘稠及粉末樣品的粘性樣品槽樣品旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)樣品槽高壓樣品槽少量樣品的微量樣品槽用于自動(dòng)測(cè)量的流動(dòng)樣品槽和試管樣品槽多個(gè)樣品槽多毛細(xì)管架 UV-Vis 池滲透池根據(jù)需求提供定制樣品臺(tái)，請(qǐng)聯(lián)系我們
探測(cè)器	2D EIGER2 R 和 PILATUS3 R 系列探測(cè)器高分辨率 WAXS 模塊（EIGER2 R 系列）
可達(dá)到的 q 范圍	0.01 nm-1 to 49.3 nm-1 (主探測(cè)器)
軟件	SAXSdrive™ 測(cè)量與采集軟件 SAXSanalysis™ 數(shù)據(jù)處理與分析軟件 PCG 高級(jí)數(shù)據(jù)解析軟件
占地面積	3.6 m x 0.9 m（微聚焦光源 Microsource，L x W） 4.5 m x 0.9 m (液態(tài)金屬靶 MetalJet, L x W)

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