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更新時(shí)間:2025-02-03 12:58:21瀏覽次數(shù):1290次
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)告知來(lái)自 化工儀器網(wǎng)日本CKD氣缸SCA2-FA-50B-650-J供應(yīng)中
動(dòng)作方式 | 其他 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子,電氣 |
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喜開(kāi)理空壓氣缸/ckd注意事項(xiàng)
PV5-8-FHG-D-2-N-A04
PV5-8-FHG-D-2-M
PV5-6-FHG-D-3-N
PV5-6-FHG-D-2-M-A03
PV5-6-FHG-D-2-M
SW-M0H
3PB119-00-3
C4000-J400
M4KB110-H6-C2-6-DC24V
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CMK2-FA-25-45
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L4000-8
PV5-8-FHG-D-3
PV5-8-FJG-D-3-N
4KA310-08-M1LSP-DC24V
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4F110-06-M1LP-DC24V
FAB31-8-3-12HS-3
空氣驅(qū)動(dòng)元件系統(tǒng)的回路構(gòu)成
在凈化元件系統(tǒng)中,由空壓氣缸、切換閥、速度控制器、F.R元件等構(gòu)成的空氣驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的般回路圖。
喜開(kāi)理空壓氣缸/ckd注意事項(xiàng)
為切實(shí)地將塵埃排出凈化室的構(gòu)造。
在沒(méi)有確認(rèn)安全的情況下,請(qǐng)不要使用本產(chǎn)品以及拆卸配管·元件。
●1 請(qǐng)務(wù)必在確認(rèn)有關(guān)產(chǎn)品的所有系統(tǒng)都處于安全狀態(tài)之后,再對(duì)機(jī)械和裝置進(jìn)行定期檢查和保養(yǎng)。
●2 停止運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)也有可能存在高溫部分或者充電部分,因此作業(yè)時(shí)請(qǐng)充分注意。
●3 請(qǐng)?jiān)谇袛嘧鳛槟芰縼?lái)源的供給空氣和相應(yīng)設(shè)備的電源、排出系統(tǒng)內(nèi)的壓縮空氣并注意是否漏水或漏電之后再進(jìn)行元件的檢查與保養(yǎng)
●4 重新起動(dòng)使用空壓元件的機(jī)械和裝置時(shí),請(qǐng)務(wù)必確認(rèn)是否采取飛出防止等確保系統(tǒng)安全的措施,并小心操作。
空氣驅(qū)動(dòng)元件系統(tǒng)的域凈化規(guī)格
空壓氣缸的構(gòu)造及材料因?qū)ο笥蚨悺?br/>空氣驅(qū)動(dòng)元件系統(tǒng)根據(jù)對(duì)象域的要求條件不同,可分成二大品群。
在此,表示關(guān)于系統(tǒng)的主要組成部分-氣缸的對(duì)象域凈化規(guī)格
降低凈化室內(nèi)發(fā)塵的空壓氣缸系列。
普通型帶導(dǎo)向
●活塞桿滑動(dòng)部分排氣處理氣口設(shè)置
●雙層密封構(gòu)造
●活塞桿滑動(dòng)部分真空除塵氣口設(shè)置
●單層密封構(gòu)造
●活塞桿滑動(dòng)部分排氣處理氣口設(shè)置
●雙層密封構(gòu)造
●不可使用銅系、有機(jī)硅系、鹵素 系(氟、氯、溴)材料
●活塞桿滑動(dòng)部分真空除塵氣口設(shè)置
●單層密封構(gòu)造
●不可使用銅系、有機(jī)硅系、鹵素 系(氟、氯、溴)材料
●活塞桿滑動(dòng)部分真空除塵氣口設(shè)置
●單層密封構(gòu)造
●導(dǎo)向部分低發(fā)塵處理
●不可使用銅系、有機(jī)硅系、鹵素系(氟、氯、溴)材料
●活塞桿滑動(dòng)部分排氣處理氣口設(shè)置
●雙層密封構(gòu)造
●導(dǎo)向部分低發(fā)塵處理
●不可使用銅系、有機(jī)硅系、鹵素系(氟、氯、溴)材料
●活塞桿滑動(dòng)部分真空除塵氣口設(shè)置
●單層密封構(gòu)造
●導(dǎo)向部分低發(fā)塵處理
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