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北京亞科晨旭科技有限公司
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當前位置:北京亞科晨旭科技有限公司>>化合物半導體-工藝設備>> Centrotherm RAPID 150Centrotherm 快速退火爐-c.RAPID 150

Centrotherm 快速退火爐-c.RAPID 150

參  考  價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準

產(chǎn)品型號Centrotherm RAPID 150

品       牌其他品牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地北京市

更新時間:2024-09-25 16:15:34瀏覽次數(shù):948次

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產(chǎn)地類別 進口 應用領域 電子
德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商,尤其在高溫設備領域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火設備,主要用于滿足研發(fā)和小規(guī)模量產(chǎn)所需的多種工藝要求。

Centrotherm 快速退火爐-c.RAPID 150

一、產(chǎn)品簡介

德國Centrotherm公司是國際主流的半導體設備供應商,尤其在高溫設備領域。Centrotherm c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火設備,主要用于滿足研發(fā)和小規(guī)模量產(chǎn)所需的多種工藝要求。

 

Centrotherm測溫系統(tǒng)適用于從室溫至高溫的廣泛區(qū)間。Centrotherm優(yōu)化的多區(qū)溫控系統(tǒng)結合可以獨立控制的加熱燈,提供了出色的控溫精度和控溫重復性。

此款設備配置手動裝載系統(tǒng),適用于研發(fā)以及小型的量產(chǎn)。

成熟的真空操作和氣體管理系統(tǒng)為多種應用提供了可控的氣體環(huán)境。出色的性能和高度的靈活性,結合小的占地面積,低的客戶擁有成本,使c.RAPID 150成為一款最佳的手動RTP設備。

 

二、典型應用

退火:一般退火、接觸層(Contact)退火、源/漏退火、勢壘金屬退火

硅化

氧化

摻雜活化

三、產(chǎn)品特性

可在常壓或者真空(控壓)下工作

高度靈活性:適用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盤

升溫速率約150 K/s


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