化學(xué)氣相沉積CVD技術(shù)簡介

時(shí)間：2023/10/24閱讀：1016

化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。在典型的CVD工藝過程中，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜。由于CVD技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。北方華創(chuàng)微電子憑借十余年的微電子領(lǐng)域精密工藝設(shè)備開發(fā)經(jīng)驗(yàn)，致力于為集成電路、半導(dǎo)體照明、微機(jī)電系統(tǒng)、功率半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體、新能源光伏等領(lǐng)域提供各種類型的CVD設(shè)備，滿足客戶多種制造工藝需求。北方華創(chuàng)微電子開發(fā)的臥式PECVD 已成功進(jìn)入海外市場，為多家*光伏制造廠提供解決方案。而硅外延設(shè)備在感應(yīng)加熱高溫控制技術(shù)、氣流場、溫度場模擬仿真技術(shù)等方面取得了重大的突破，達(dá)成了優(yōu)秀的外延工藝結(jié)果，獲得多家國內(nèi)主流生產(chǎn)線批量采購。面向LED領(lǐng)域介質(zhì)膜沉積的PECVD設(shè)備，憑借優(yōu)秀的工藝性能和產(chǎn)能優(yōu)勢，已成為LED客戶擴(kuò)產(chǎn)優(yōu)選設(shè)備。

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化學(xué)氣相沉積CVD技術(shù)簡介

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