目錄:優(yōu)萊博技術(shù)（北京）有限公司>>樣品前處理分析配套產(chǎn)品>> ChemTron DAB-3/DAB-3 (400ml) 壓力消解罐
| 產(chǎn)地類別 | 進口 | 應用領(lǐng)域 | 食品,化工,生物產(chǎn)業(yè),文體,石油 |
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水熱合成實驗
水熱合成法是指溫度為100 ～ 1000 ℃、壓力為1MPa ～ 1GPa 條件下利用水溶液中物質(zhì)化學反應所進行合成的方法。在亞臨界和超臨界水熱條件下，由于反應處于分子水平，反應活性提高，因而水熱反應可以替代某些高溫固相反應。又由于
水熱反應的均相成核及非均相成核機理與固相反應的擴散機制不同，因而可以創(chuàng)造出其它方法無法制備的新化合物和新材料。水熱合成可分為：水熱氧化，水熱沉淀，水熱合成，水熱還原，水熱分解，水熱結(jié)晶等
安全
壓力消解罐采用高品質(zhì)不銹鋼材質(zhì)和高密度PTFE內(nèi)襯，確保實驗操作的可靠性和安全性。
* 所有容器均經(jīng)過 TUV 測試認證
* 操作壓力可達 200bar
* 溫度可達 250℃，實驗周期可達數(shù)天
* 爆破片確保操作人員的安全
* 密封技術(shù)確保易揮發(fā)物質(zhì)不會流失和擴散
* 當消解罐被打開時，控制壓力將會釋放
內(nèi)襯技術(shù)
根據(jù)容積不同，TFM-PTFE 高密度內(nèi)襯從50ml 到250ml 范圍可選，安全耐腐蝕，使用壽命長，操作簡單便
可靠的反應控制
高精度溫度控制器確保參數(shù)統(tǒng)一監(jiān)控，該控制器可以進行升溫程序編程。Chemtron 消解罐可與實驗室日常工作結(jié)合起來，進行隔夜實驗測試，避免樣品轉(zhuǎn)移帶來的麻煩
加熱
Chemtron 針對不同體積的消解罐，可提供不同數(shù)量孔位的加熱裝置，可支持12 位消解罐同時進行溫度控制
應用
制備超細顆粒，無機薄膜，微孔材料，超臨界合成等工藝研究難消解樣品的高溫高壓消解
技術(shù)參數(shù)
| 型號 | DAB-3 | DAB-3 (400ml) | ||
性能 | 材質(zhì) | 316 鈦鋼和 TFM-PTFE 內(nèi)襯 | ||
極限溫度 | 230℃ | 230℃ | ||
極限壓力 | 200 bar | 200 bar | ||
消解罐體 | 內(nèi)部直徑 | 74 mm | 74 mm | |
內(nèi)部高度 | 183mm | 264 mm | ||
TFM-PTFE 內(nèi)襯 | 容積 | 150 ml | 250 ml | 420ml |
內(nèi)部直徑 | 44 ml | 53ml | 55 ml | |
內(nèi)部高度 | 90 ml | 97ml | 176 ml | |
附件 | 安全附件 | 爆破片 | ||
加熱單元 | 加熱塊 | 1, 2, 4 位可選 | 1, 2, 4 位可選 | |
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