一. 產(chǎn)品應(yīng)用 
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。 
二. 產(chǎn)品簡介 
浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而，對(duì)不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動(dòng)，可提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。 
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品。 
三. 產(chǎn)品特點(diǎn) 
1. 采用自主的的傳動(dòng)裝置； 
2. 提拉機(jī)構(gòu)、程控系統(tǒng)來自中國臺(tái)灣及日本進(jìn)口，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性； 
3. 多參數(shù)全自動(dòng)控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)； 
4. 鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫，。 
5. 運(yùn)行時(shí)，各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀了解鍍膜進(jìn)程； 
6. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無振動(dòng)，使成膜更均勻； 
7. 整個(gè)鍍膜過程在恒溫溫度場內(nèi)進(jìn)行，可控溫，溫度均勻性好。 
8. 的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會(huì)夾壞樣片； 
四. 參數(shù) 
1. 提拉速度范圍：1～5000 μm/s，小分辨率1μm/s； 
2. 適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm； 
3. 浸漬時(shí)間：1～1200 s，小分辨率1s； 
4. 鍍膜次數(shù)：1～100次，少1次； 
5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，小分辨率1s； 
6. 恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃； 
7. 溫度波動(dòng)度≤±0.2℃； 
8. 恒溫場內(nèi)尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）； 
9. 電源：220V/50Hz

一. 產(chǎn)品應(yīng)用 
本產(chǎn)品主要用于溶膠-凝膠法等液相法制備薄膜材料。把潔凈干燥的基片浸入溶液（溶膠）中，通過預(yù)先設(shè)置的參數(shù)，將浸漬后的基片以一定速度垂直提拉起來。在基片上附著一層膜，稱為 “濕凝膠膜”，隨著“濕凝膠膜”膜層中溶劑的揮發(fā)，膜層在基片上固化成為“干凝膠膜”。“干凝膠膜”經(jīng)過進(jìn)一步的干燥及高溫?zé)崽幚肀愕玫剿璧募{米薄膜材料。 
二. 產(chǎn)品簡介 
浸漬提拉鍍膜機(jī)是專門為液相（特別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究工作而，對(duì)不同液體通過浸漬提拉生長薄膜。提拉速度、提拉高度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、工作時(shí)液面無振動(dòng)，可提高實(shí)驗(yàn)精度與實(shí)驗(yàn)效率。 
適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆工藝。應(yīng)用于科學(xué)研究、產(chǎn)品。 
三. 產(chǎn)品特點(diǎn) 
1. 采用自主的的傳動(dòng)裝置； 
2. 提拉機(jī)構(gòu)、程控系統(tǒng)來自中國臺(tái)灣及日本進(jìn)口，確保運(yùn)行精度及穩(wěn)定性； 
3. 多參數(shù)全自動(dòng)控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)； 
4. 鍍膜過程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；恒溫場溫度LCD液晶顯示可編程控溫，。 
5. 運(yùn)行時(shí)，各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀了解鍍膜進(jìn)程； 
6. 高、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無振動(dòng)，使成膜更均勻； 
7. 整個(gè)鍍膜過程在恒溫溫度場內(nèi)進(jìn)行，可控溫，溫度均勻性好。 
8. 的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會(huì)夾壞樣片； 
四. 參數(shù) 
1. 提拉速度范圍：1～5000 μm/s，小分辨率1μm/s； 
2. 適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm； 
3. 浸漬時(shí)間：1～1200 s，小分辨率1s； 
4. 鍍膜次數(shù)：1～100次，少1次； 
5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，小分辨率1s； 
6. 恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃； 
7. 溫度波動(dòng)度≤±0.2℃； 
8. 恒溫場內(nèi)尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）； 
9. 電源：220V/50Hz