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邁可諾技術有限公司

主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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勻膠機/勻膠旋涂儀

狹縫涂布儀

掩膜曝光光刻機

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等離子清洗機

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    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)系人：
    葉盛
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    4008800298
    手機：
    13681069478
    傳真：
    地址：
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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    [供應]ZEPTO-Diener 等離子清洗機
    ZEPTO-Diener 等離子清洗機
    貨物所在地：
    北京北京市
    產(chǎn)地：
    德國
    更新時間：
    2024-09-18 09:27:53
    有效期：
    2024年9月18日--2025年3月18日
    已獲點擊：
    442
    【簡單介紹】等離子體表面處理儀的應用范圍：
    * 清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
    * 清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
    * 移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
    * 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
    * 清洗半導體元件、印刷線路板。
    * 清洗生物芯片、微流控芯片。
    【詳細說明】

    * 清洗沉積凝膠的基片。
    * 高分子材料表面修飾。
    * 牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。
    * 改善粘接光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。 
    小型等離子清洗機-低成本等離子處理設備
    等離子清洗-等離子刻蝕-等離子去膠-等離子活化
    小型等離子清洗機以體積小、成本低、操作簡便等特點廣泛應用于科研及小批量生產(chǎn)場合。

     

    ZEPTO等離子清洗機
    反應室尺寸：玻璃反應艙Ø 105 mm，L 300 mm
    反應室容積：約 2,6 公升
    氣體供應：針閥控制型，雙氣體通道
    射頻發(fā)生器：40kHz/100W或13,56 MHz/ 50W
    真空泵：抽氣速率: 2 m³/h    
    托盤：1 件
    控制方式：手動，計時器控制制程時間

     



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