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主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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共計(jì) 3 條產(chǎn)品信息

產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統(tǒng)
PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統(tǒng)
簡(jiǎn)單介紹:PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統(tǒng)擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。
產(chǎn)品型號(hào):PlasmaSTAR® 100/200   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-16
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100
PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100
簡(jiǎn)單介紹:反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹
PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料,擁有多種腔室和電極配置,可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小,用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外,觸摸屏計(jì)算機(jī)控制,多級(jí)程序控制和組件控制,操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。
產(chǎn)品型號(hào):PlasmaStar 100/100 RIE   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-16
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機(jī)
PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機(jī)
簡(jiǎn)單介紹:PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁, 有幾種不同的電極設(shè)計(jì),包括用于反應(yīng)離子刻蝕(RIE)和平面處理的水冷平板電極,用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極,用于小化離子損傷的下游電極,和用于普通的圓柱形籠式電極。
產(chǎn)品型號(hào):PlasmaStar 200/200 RIE   所在地:北京市   更新時(shí)間:2024-05-16
參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
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