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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

勻膠機/勻膠旋涂儀

狹縫涂布儀

掩膜曝光光刻機

納米壓印光刻機

快速退火爐

烤膠機/熱板

紫外臭氧清洗機

紫外固化機/紫外固化箱

等離子去膠機

超聲波清洗機

等離子清洗機

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺

壓片機/液壓機

制樣機

接觸角測角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機

顯微鏡檢測系統(tǒng)

程序剪切儀

光學(xué)試劑

韓國波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機

    手套箱

    天平

    鍵合機

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計

    點膠機

    噴涂機

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    葉盛
    話:
    4008800298
    機:
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
    編:
    化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://yimoshopping.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]G50H-19-R10ASTM-WABASH 橡膠制備壓力機
    G50H-19-R10ASTM-WABASH 橡膠制備壓力機
    貨物所在地:
    北京北京市
    產(chǎn)地:
    美國
    更新時間:
    2024-09-18 09:28:16
    有效期:
    2024年9月18日--2025年3月18日
    已獲點擊:
    246
    【簡單介紹】Genesis系列G50H-19型橡膠制備壓力機設(shè)計用于硫化處理橡膠板為質(zhì)量控制、研究開發(fā)和材料對比提供試樣,此壓機根據(jù)ASTM D3182用于制備樣片進行材料性能測試。
    【詳細(xì)說明】

    一、液壓系統(tǒng): 

    帶有Micro ViewTM用戶界面的AB MicrologixTM1200可編程序邏輯控制器 
    1/16定數(shù)字溫度控制器,帶互鎖操作門的全防護模壓區(qū)域,可選擇觸摸式量表用于靜音操作 ,可選擇低壓系統(tǒng)用于2-50噸操作。

    二、技術(shù)指標(biāo): 
    合模力:8-50噸可調(diào) 
    壓板間距:8 -16英寸可調(diào) 
    合模行程:8英寸 
    加熱壓板:19英寸×19英寸
    zui高溫度:500℉ 
    操作速度:
    關(guān):70英寸/分 
    壓:5英寸/分 
    開:75英寸/分 
    尺寸規(guī)格:53英寸寬×53英寸厚×81英寸高 
    設(shè)備重量:3650磅(約) 
    溫度均勻性:Genesis橡膠樣品制備壓機包含了一個壓板設(shè)計(待批)用以使壓板表面保持更精確的溫度均勻性。此壓機有三個溫度性能范圍適合任何工藝要求。 
    三款設(shè)備的溫度均勻性參考:
    G50H-19-R10ASTM  10°F 
    G50H-19-R5ASTM   5°F 
    G50H-19-R2.5ASTM  2.5°F 
    在達(dá)到302℉處理后,從zui小到zui大讀數(shù)擴散開,如均勻性要求達(dá)到2.5℉以下,需與我們確認(rèn)。



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