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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來城A棟
    編:
    個(gè)化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://yimoshopping.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]勻膠顯影機(jī)
    勻膠顯影機(jī)
    貨物所在地:
    北京北京市
    產(chǎn)地:
    美國(guó)賓夕法尼亞州
    更新時(shí)間:
    2024-09-23 09:05:54
    有效期:
    2024年9月23日--2025年3月26日
    已獲點(diǎn)擊:
    2354
    【簡(jiǎn)單介紹】EDC-650系列勻膠顯影系統(tǒng)適用于半導(dǎo)體前段制程的勻膠,顯影,刻蝕,沖洗,甩干等工藝,可通過程序控制多路試劑的顯影和濕法腐蝕,我們有著近三十年半導(dǎo)體濕法工藝的經(jīng)驗(yàn)積累,通過對(duì)各路試劑注射的精準(zhǔn)控制,對(duì)氮?dú)夂腿ルx子水綜合應(yīng)用,能夠完整實(shí)現(xiàn)樣片的干進(jìn)干出。是當(dāng)今*和經(jīng)濟(jì)的濕法處理解決方案。
    【詳細(xì)說明】

    勻膠顯影機(jī)(英文名:Developing)

    型號(hào):EDC-650Mz-23NPP

    產(chǎn)地:美國(guó)                            

     

    一、產(chǎn)品概述:

        650型勻膠顯影機(jī)適應(yīng)于半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面顯影。一般由動(dòng)力系統(tǒng)、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 ()輥、涂膠槽等部分組成。

     

    二、工作原理:

    顯影系統(tǒng)具有可編程閥,它可以使單注射器試劑滴膠按照蝕刻、顯影和清洗應(yīng)用的要求重復(fù)進(jìn)行,如沖洗(通常是去離子水或溶劑),然后干燥(通常是氮?dú)猓┑葄ui后的處理步驟。采用此序貫閥門技術(shù)的晶圓片和管道在*干燥的環(huán)境中開通和關(guān)閉處理過程。隔離和獨(dú)立的給水器可處在靜態(tài)的位置還可以蓋內(nèi)調(diào)節(jié)。還有可選擇的動(dòng)態(tài)線性或徑向滴膠的特性。

     

    三、主要性能指標(biāo):                                             
    1
    、腔體尺寸:9.5英寸 (241 毫米);

    2、Wafer&芯片:直徑6英寸(150毫米)的晶圓片或者5x5英寸(125毫米)的方片;

    3、非真空托盤:聚丙烯材質(zhì)非真空托盤,可承載23英寸及150毫米的晶圓片-并帶有背面清洗功能;

    3、轉(zhuǎn)動(dòng)速度:0-12,000rpm,

    5、馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速:穩(wěn)定性能誤差 < ±1%;

    6、工藝時(shí)間設(shè)定:1-5999.9 sec/step 0.1 精度;

    7、高精度數(shù)碼控制器:PLC控制,設(shè)置點(diǎn)精度小于0.006%;

    8、程序控制:可存儲(chǔ)20個(gè)程序段,每個(gè)程序段可以設(shè)置51步不同的速度狀態(tài);

    9、分辨率:分辨率小于0.5轉(zhuǎn)/分,可重復(fù)性小于±0.5轉(zhuǎn)/分,美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)研究院(NIST)認(rèn)證過的,并且無(wú)需再校準(zhǔn)!]

    10、腔體開關(guān)蓋板:透明ECTFE材質(zhì)圓頂蓋板,便于實(shí)時(shí)進(jìn)行可視化操作;

    11、腔體材質(zhì)說明:用聚丙烯材質(zhì)制成的帶有聯(lián)動(dòng)傳感觸點(diǎn)的合瓣式艙體;
    12、配套分析軟件:SPIN3000操作分析軟件;

    13、配套真空泵系統(tǒng):無(wú)油型 220~240伏交流,50/60赫茲;



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