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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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SCE-14,18,24,30等離子刻蝕機(jī)/系統(tǒng)是在兩塊平面電極之間進(jìn)行蝕刻，與感應(yīng)耦合等離子體（ICP）不同，是通過高壓線圈產(chǎn)生的。MYCRO的SCE系列鋁制反應(yīng)艙等離子體系統(tǒng)是該領(lǐng)域的產(chǎn)品。我們的等離子刻蝕機(jī)無論是做研發(fā)還是大規(guī)模生產(chǎn)，總有一款SCE系列系統(tǒng)可以滿足需要。就設(shè)備設(shè)計(jì)、質(zhì)量或是交貨靈活性、經(jīng)濟(jì)型等離子體系統(tǒng)等方面而言，沒有公司與之相提并論。 SCE-AL等離子刻蝕系統(tǒng)可以在以下四種平板等離子體處理模式下運(yùn)行： 直接模式—基片可以直接放置在電極支架或是底座支架上，取得zui大的平板蝕刻處理效果。 定向模式—需要非等向性蝕刻（anisotropic etching）的基片可以放置在特制的平板支架上。 下游模式—基片可以放置在不帶電支架上，以便取得微小的等離子體效果。 定制模式—當(dāng)平板蝕刻配置不過理想時(shí)，特制的電極配置可以提供。 兩種反映系統(tǒng)： 鋁制反應(yīng)艙系統(tǒng)可以配置，用于定向和下游等離子體處理模式。 石英反應(yīng)艙系統(tǒng)可以配置，用于平板定向要非等向性和感應(yīng)耦合等離子體（ICP）定向等離子體的發(fā)生。 鋁質(zhì)腔體等離子刻蝕系統(tǒng)Aluminum Chamber Plasma Systems SCE 14鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng) 長寬高356毫米的立方體腔體 外形尺寸559毫米 x 686毫米 x 915毫米 （w,d,h） SCE 18鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng) 長寬高457毫米的立方體腔體 外形尺寸 711毫米x 711毫米x 1651毫米（w,d,h） SCE 24鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng) 長寬高610毫米的立方體腔體 外形尺寸 864毫米 x 813毫米 x 1829毫米 （w,d,h） SCE30鋁質(zhì)腔體等離子系統(tǒng) 長寬高762毫米的立方體腔體 外形尺寸915毫米x 915毫米x 1829毫米（w,d,h） 清洗：等離子體處理對(duì)于分子級(jí)的基片預(yù)清洗是非常必要的的。無論濕法清洗的步驟有多少，在基片盒粘合劑、涂料、其它材料的鍵合之間還是有殘留物。 通過去除可能會(huì)截留的污染物，分子級(jí)的等離子體清洗可促進(jìn)鍵合。等離子體處理，配合正確的氣體混合比例，通過增加表面機(jī)能和減小表面張力而促進(jìn)基片的親水性。膠黏劑均勻地覆蓋在基片表面，而無空隙。 案例包括飛機(jī)和汽車領(lǐng)域，*使用的水下電纜，海上鉆井平臺(tái)等磨損治理。
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