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邁可諾技術有限公司

主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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勻膠機/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機

狹縫涂布儀

烤膠機/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機

紫外固化機/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機

等離子清洗機

超聲波清洗機

等離子去膠機

原子層沉積系統(tǒng)

光學膜厚儀

探針臺

壓片機/液壓機

制樣機

接觸角測角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機

顯微鏡檢測系統(tǒng)

程序剪切儀

韓國波導樹脂

環(huán)氧樹脂

光學試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙

    • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動泵

    熱循環(huán)儀

    離心機

    手套箱

    天平

    鍵合機

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機

    橢偏儀

    自動涂膜器

    分光光度計

    點膠機

    噴涂機

    晶圓片

    密度測試儀

    臨界點干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機

    切割設備

    超聲波細胞粉碎機

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)系人：
    葉盛
    電話：
    4008800298
    手機：
    13681069478
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    地址：
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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    [供應]CESx124-進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)
    CESx124-進口濕法刻蝕和剝離系統(tǒng)
    貨物所在地：
    北京北京市
    更新時間：
    2024-08-22 10:15:31
    有效期：
    2024年8月22日--2025年2月20日
    已獲點擊：
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    【簡單介紹】這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。
    【詳細說明】

    簡介：這款蝕刻和清潔系統(tǒng)專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統(tǒng)CESx124、126、128或133是理想選擇，可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底，不論是從小直徑還是非常大直徑。CESx可以配置多種工藝分配選項，Megasonic噴嘴對DI H20或化學藥品的處理分配選項；用于化學制劑的低壓噴嘴；化學加熱器和DI-H20；用于表面攪拌以加快反應的刷子，和/或DI H20等。

    可編程拋物線機械臂運動有助于確保均勻蝕刻。快速有效的干燥技術結合了可變的旋轉速度；可選加熱DI-H20和氮氣輔助。該系統(tǒng)非常安全，在接近基底之前，可以通過“漂洗至pH” 盡量減少對化學物質的接觸。

     

    特點：

    • 專為重要控制和安全而設計的系統(tǒng)。
    • 多達9x9英寸/ 300mm直徑的基板兼容性。
    • 主軸組件具有直流無刷伺服電機，可實現(xiàn)精確的速度控制和分度。
    • 特氟龍涂層不銹鋼臂可調節(jié)臂速度和行進位置。
    • 徑向排氣腔，用于大層流，蓋子頂部有N2進料。
    • DI-H20加熱器，用于清潔和干燥輔助。
    • 過程中包含化學相容性材料PVDF或可選的PTFE。
    • 獨立式聚丙烯柜。
    • 微處理器控制功能可以在存儲器中保留三十（30）步的配方，每個配方有三十（30）步。配方和步驟的數(shù)量均可根據(jù)要求擴展。
    • 內置安全聯(lián)鎖和雙重控制。
    • 用聯(lián)鎖裝置沖洗整個工藝區(qū)域和基材的pH值，以禁止進入工藝區(qū)域并控制排放和主軸轉速直到安全。
    • 按鈕蓋打開/關閉。
    • 觸摸屏圖形用戶界面（GUI），易于編程和安全鎖定，并帶有屏幕錯誤報告。
    • 用于化學和房屋排水的排水分流閥。
    • 設計符合SEMI S2 / S8準則。

     

    技術參數(shù)：

    • 產品：蝕刻和剝離系統(tǒng)
    • 型號：CESx124
    • 可用機械臂：4
    • 大基板尺寸：13英寸直徑
    • 大主軸速度：2500
    • 配方：高達30
    • 分配管路：12

     

    主營產品：

    Laurell勻膠機    

    Harrick等離子清洗機

    Thetametrisis膜厚儀 

    Microxact探針臺

    ALD原子層沉積系統(tǒng)

    TRION反應離子刻蝕機

    Uvitron紫外固化箱

    NXQ紫外曝光光刻機      

    Novascan紫外臭氧清洗機

    Nilt納米壓印機

    Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

    Annealsys高溫退火爐

    Kinematic程序剪切儀

    Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)    

    Wabash/Carver自動壓片機



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