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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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您現(xiàn)在的位置: 首頁(yè)> 供求商機(jī)> 2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000

勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    葉盛
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來城A棟
    編:
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    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
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    http://yimoshopping.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000
    2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2024-11-15 09:57:44
    有效期:
    2024年11月15日--2025年11月16日
    已獲點(diǎn)擊:
    264
    【簡(jiǎn)單介紹】SU-8 2000是一種高對(duì)比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
    【詳細(xì)說明】

    為了獲得大的過程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前,基材應(yīng)清潔干燥。 為了獲得很好的結(jié)果,應(yīng)使用食人魚濕法蝕刻(使用H2SO4和H2O2)清潔基材,然后用去離子水沖洗。

    基材也可以使用反應(yīng)離子蝕刻進(jìn)行清潔

    (RIE)或任何裝有氧氣的桶式灰燼。 通常不需要粘合促進(jìn)劑。 對(duì)于包括電鍍的應(yīng)用,建議使用MCC Primer 80/20(HMDS)對(duì)基材進(jìn)行預(yù)處理。

    涂層

    SU-8 2000抗蝕劑有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。 本加工指南文件涉及四種產(chǎn)品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。圖1。

    提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉(zhuǎn)條件以實(shí)現(xiàn)所需膜厚所需的信息。

    推薦節(jié)目

    1.)為基板直徑的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蝕劑。

    2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉(zhuǎn)5-10秒。

    3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉(zhuǎn)30秒。



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