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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

狹縫涂布儀

掩膜曝光光刻機(jī)

納米壓印光刻機(jī)

快速退火爐

烤膠機(jī)/熱板

紫外臭氧清洗機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

光學(xué)試劑

韓國(guó)波導(dǎo)樹(shù)脂

環(huán)氧樹(shù)脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    公司信息

    聯(lián)人:
    葉盛
    話(huà):
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
    編:
    個(gè)化:
    www.mycro.net.cn
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    http://yimoshopping.cn/st119375/
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    [供應(yīng)]2025/2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000
    2025/2035/2050/2075/2100-光刻膠SU-8 2000
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2024-10-25 09:23:55
    有效期:
    2024年10月25日--2025年4月26日
    已獲點(diǎn)擊:
    492
    【簡(jiǎn)單介紹】SU-8 2000是一種高對(duì)比度,基于環(huán)氧的光致抗蝕劑,設(shè)計(jì)用于微加工和其他微電子應(yīng)用,需要厚,化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進(jìn)配方,多年來(lái)已被MEMS生產(chǎn)商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統(tǒng)可改善涂層質(zhì)量并提高工藝產(chǎn)量。 SU-8 2000有十二種標(biāo)準(zhǔn)粘度。通過(guò)單道涂覆工藝可以實(shí)現(xiàn)0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。
    【詳細(xì)說(shuō)明】

    加工準(zhǔn)則

    SU-8 2000光刻膠通常用常規(guī)的UV(350-400 nm)輻射曝光,盡管建議使用i-line(365 nm)波長(zhǎng)。 SU-8 2000也可能會(huì)受到電子束或X射線(xiàn)輻射的照射。 曝光后,交聯(lián)在兩個(gè)步驟中進(jìn)行(1)在曝光步驟中形成強(qiáng)酸,然后(2)在曝光后烘烤(PEB)步驟中進(jìn)行酸催化的熱驅(qū)動(dòng)環(huán)氧交聯(lián)。 正常過(guò)程是:旋涂,軟烤,曝光,PEB,然后顯影。

    SU-8 2000功能

    •高縱橫比成像

    •單層涂膜厚度為0.5至> 200mm

    •改善涂層性能

    •更快干燥以提高產(chǎn)量

    •近紫外線(xiàn)(350-400 nm)處理

    •垂直側(cè)壁

    硬烤(固化)

    SU-8 2000具有良好的機(jī)械性能。但是,對(duì)于要保留成像的抗蝕劑作為終設(shè)備一部分的應(yīng)用,可以將硬烘烤結(jié)合到該過(guò)程中。通常僅在終設(shè)備或零件在正常運(yùn)行期間要進(jìn)行熱處理時(shí)才需要這樣做。添加了硬烘烤或終固化步驟,以確保SU-8 2000的性能在實(shí)際使用中不會(huì)改變。 SU-8 2000是一種熱敏樹(shù)脂,因此暴露于比以前高的溫度下,其性能會(huì)不斷變化。我們建議使用的終烘烤溫度要比設(shè)備的預(yù)期工作溫度高10°C。根據(jù)所需的固化程度,通常使用的烘烤溫度范圍為150°C至250°C,烘烤時(shí)間為5至30分鐘。注意:硬烘烤步驟還可用于對(duì)顯影后可能出現(xiàn)的任何表面裂紋進(jìn)行退火。建議的步驟是在150°C下烘烤幾分鐘。這適用于所有膜厚度



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