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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營(yíng)產(chǎn)品： 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)：
1、Futurrex光刻膠黏附性好，無(wú)需使用增粘劑（HMDS）
2、負(fù)性光刻膠常溫下可保存3年
3、150度烘烤，縮短了烘烤時(shí)間
4、單次旋涂能夠達(dá)到100um膜厚
5、顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘
負(fù)性光刻膠
A、 粘性增強(qiáng)負(fù)膠（NR9-P、NR9G-P、NR5系列）
特性
在蝕刻和電鍍應(yīng)用時(shí)具有*的粘附力，且很容易去除
厚度范圍：<0.1-120μm
i、g以及h線曝光
優(yōu)勢(shì)：
具有一次旋涂即可獲得100μm以上*的分辨率的甩膠厚度
150℃軟烘烤的應(yīng)用可縮短烘烤時(shí)間
更快的顯影，100μm的光刻膠顯影僅需6-8分鐘
不必使用增粘劑如HMDS
B、 高級(jí)加工負(fù)膠（NR71-P、NR71G-P系列）
特性：
在RIE處理是優(yōu)異的選擇性以及在離子注入時(shí)優(yōu)異的耐高溫性能
厚度范圍：<0.1-120μm
i、g以及h線曝光
優(yōu)勢(shì)：
具有一次旋涂即可獲得100μm以上*的分辨率的甩膠厚度
150℃軟烘烤的應(yīng)用可縮短烘烤時(shí)間
更快的顯影，100μm的光刻膠顯影僅需6-8分鐘
可耐受180℃的高溫
不必使用增粘劑如HMDS
