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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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| 產品圖片 | 產品名稱 | |||
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SCE-1414Anatech 鋁制等離子表面處理機 簡單介紹：MYCRO的SCE系列鋁制反應艙等離子體系統(tǒng)是該領域的產品。我們的Anatech 鋁制等離子表面處理機無論是做研發(fā)還是大規(guī)模生產，總有一款SCE系列系統(tǒng)可以滿足需要。就設備設計、質量或是交貨靈活性、經濟型等離子體系統(tǒng)等方面而言，沒有公司與之相提并論。 產品型號：SCE-1414 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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PDC-32G-2Harrick小型等離子刻蝕機 簡單介紹：Harrick小型等離子刻蝕機是一種小型化、超清洗設備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 產品型號：PDC-32G-2 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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WS-650MZ-23NPPB/OND美國Laurell勻膠機650-23NPPB 簡單介紹：美國Laurell勻膠機650-23NPPB系列勻膠機適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝。 產品型號：WS-650MZ-23NPPB/OND 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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WS-650HZ-8NPPB/UD3BLaurell勻膠機650-8NBPP 簡單介紹：Laurell勻膠機650-8NBPP（英文名：Spin Coater）適合半導體硅片的勻膠鍍膜 詳細介紹：勻膠機（英文名：Spin Coater& Spin Processor） 行業(yè)俗稱：勻膠臺、勻膠機、旋涂儀、涂膠機、鍍膜機、涂層機 產品型號：WS-650HZ-8NPPB/UD3B 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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WS-650MZ-8NPPB/OND美國Laurell勻膠機650 簡單介紹：美國Laurell勻膠機650（英文名：Spin Coater）適合半導體硅片的勻膠鍍膜 詳細介紹：勻膠機（英文名：Spin Coater& Spin Processor） 行業(yè)俗稱：勻膠臺、勻膠機、旋涂儀、涂膠機、鍍膜機、涂層機 產品型號：WS-650MZ-8NPPB/OND 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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PDC-002Harrick 氧等離子表面處理儀 簡單介紹：Harrick 氧等離子表面處理儀是一種小型化、超清洗設備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 Harrick 等離子體表面處理儀短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉。 產品型號：PDC-002 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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PDC-002-HPHarrick小型等離子清洗機HP 簡單介紹：Harrick小型等離子清洗機HP是一種小型化、超清洗設備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 產品型號：PDC-002-HP 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EHP-1000-2EMS加熱板/烤膠機 簡單介紹：EMS加熱板/烤膠機（英文名：Hot Plate）又名烘膠臺，烤膠臺，加熱平臺，烤膠板，熱臺，熱板等用途可在光刻工藝中的涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅膜，磨片粘片熔臘等，它采用整體鑄造，加熱板作為加熱體，增強了設備的安全性。 產品型號：EHP-1000-2 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EHP-1000-1EMS加熱板 簡單介紹：烤膠機（英文名：Hot Plate）又名烘膠臺，烤膠臺，加熱平臺，烤膠板，熱臺，熱板等用途可在光刻工藝中的涂膠后的軟烘，暴光后烘，顯影后的堅膜，磨片粘片熔臘等，它采用整體鑄造，加熱板作為加熱體，增強了設備的安全性。 產品型號：EHP-1000-1 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-8NPPBLaurell勻膠顯影機EDC 簡單介紹：Laurell勻膠顯影機EDC產于美國，是原裝的濕法刻蝕設備美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業(yè)提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有EDC-650Mz-23NPP/EDC-650Hz-8NPP等各類顯影系統(tǒng)，目前客戶已遍布。還有WS-1000濕法刻蝕設備，WS-1000m濕法刻蝕設備等多種半導體濕制成設備。 產品型號：EDC-650Hz-8NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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美國硼酸片 簡單介紹：硼酸片常規(guī)尺寸和重量現(xiàn)貨供應。作為防腐劑和殺菌劑用于醫(yī)藥領域。硼酸片還充當助磨劑在光譜領域。在許多應用中的硼酸降低成本開放的可能性，在其他許多領域片劑的優(yōu)點尚未得到充分利用。片劑的成本已節(jié)省了許多倍，通過除去稱重和配藥的費用，消除了粉塵，簡化解決準備方案，并允許自動進料和計量。潛在的應用包括： 產品型號： 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-16 |
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081160美國Cargille光學凝膠081160 簡單介紹：Cargille 光學凝膠081160適用于BK7玻璃。 產品型號：081160 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-16 |
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美國Cargille激光液 簡單介紹：訂制光學混合液體成想要的規(guī)格：折射率，波長，溫度，用在激光和其他專業(yè)的光學應用上。激光液體也用于定制混合折射儀校準液。 產品型號： 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-16 |
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nD:1.300-1.780折射率匹配液 簡單介紹：Cargille Laboratories, Inc. 自1942年創(chuàng)立以來一直處于高速成長，今天已成為世界上提供折射率指數(shù)油Z大Z有影響力的公司。 美國的Cargille 折射率匹配液已經成為各行各業(yè)實驗室用來鑒定的標準工具，從礦質確認到生產質量控制，新的更廣的應用在化學，工程，醫(yī)學，醫(yī)療，光學，等領域不斷被發(fā)現(xiàn)。 產品型號：nD:1.300-1.780 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-16 |
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Cargille顯微鏡浸油選購指南 簡單介紹：美國Cargille公司的浸油是滿足美國FDA標準的浸油產品，所有的Cargille浸油產品均滿足DIN 58884標準要求。這是*的、不可替代的。目前共有9中型號可供選擇，分別是：A型、B、型、300型、37型、NVH型、OVH型、LDF型、FF型、HF型。 產品型號： 所在地：武漢市 更新時間：2024-05-16 |
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PDC-FMG-2Harrick 氣體流量控制器 簡單介紹：Harrick 氣體流量控制器主要應用于處理氣體的精密控制、在等離子清洗過程中氣體流混合和真空艙內壓力監(jiān)控。 產品型號：PDC-FMG-2 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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PDC-32G-2Harrick等離子清洗機 簡單介紹：Harrick Plasma公司的等離子體表面處理儀是一種小型化、超清洗設備。 Harrick等離子清洗機采用氣體作為清洗介質，有效地避免了因液體清洗介質對被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺真空非破壞性的泵，工作時等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 Harrick 等離子體表面處理儀短時間的清洗就可以使有機污染物被*地清洗掉. 產品型號：PDC-32G-2 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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EDC-650Hz-23NPPBEDC濕法刻蝕顯影機 簡單介紹：EDC濕法刻蝕顯影機適應于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。 產品型號：EDC-650Hz-23NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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WS-650HZ-23NPPBLaurell勻膠機650-23NPPB 簡單介紹：Laurell勻膠機650-23NPPB系列特色： ◆ 科研制備理想的勻膠機； ◆ 勻膠機由NPP或Teflon材質構造； ◆ 勻膠機分為150毫米，200毫米和300毫米三種腔體大??； ◆ 勻膠機可選擇臺式，立式和特殊環(huán)境內置式不同外形； ◆ 勻膠機的Z大轉速可達10000RPM； ◆ 易編程的數(shù)碼控制器（400/500型控制器）； ◆ 可升級成為自動滴膠型勻膠機； 產品型號：WS-650HZ-23NPPB 所在地：北京市 更新時間：2024-05-16 |
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