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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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公司信息

聯(lián)人:
葉盛
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4008800298
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13681069478
真:
址:
洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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UV-KUB2UV-LED紫外掩膜曝光系統(tǒng)
UV-LED紫外掩膜曝光系統(tǒng)
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 UV-KUB2
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 武漢市

更新時間:2024-05-17 12:30:35瀏覽次數(shù):2417

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 醫(yī)療衛(wèi)生,化工,生物產(chǎn)業(yè),電子
我們在Dilase 直接激光寫入光刻技術(shù)方面擁有豐富的經(jīng)驗,因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系統(tǒng)。 UV-KUB 2 是一種基于 UV LED 的曝光和掩膜系統(tǒng),具有 365nm 的可用光源。 這是一款緊湊型的桌面系統(tǒng),能夠曝光最大直徑為 4“ 或 6“ 的晶圓。
【詳細(xì)說明】

用于軟光刻工藝,緊湊的桌面系統(tǒng)

365nm +/- 5nm 處*單色曝光

可處理4英寸或6英寸晶圓

提供硬接觸和軟接觸模式 

與所有光刻膠兼容

分辨率:1µm

 

我們在Dilase 直接激光寫入光刻技術(shù)方面擁有豐富的經(jīng)驗,因此推出了用于固化紫外光感光材料的 UV-KUB 系統(tǒng)。 UV-KUB 2 是一種基于 UV LED 的曝光和掩系統(tǒng),具有 365nm 的可用光源。 這是一緊湊的桌面系統(tǒng),能夠曝光最大直徑為 4" 6" 的晶圓。 UV-KUB 系統(tǒng)與硬(物理)接觸或軟(接近)接觸工藝兼容,并具有可變掩到基板距離控制的特點。由觸摸屏控制,UV-KUB 2通過*封閉的曝光保證安全。由于它的密封配置,該設(shè)備不需要安裝在潔凈室中。

 

技術(shù)突破:

1、高質(zhì)量準(zhǔn)直器

· 發(fā)散角小于2°,保證了在厚層上實現(xiàn)分辨率低至 1µm和邊緣垂直度極 jia的圖案。

· 這種高質(zhì)量的準(zhǔn)直允許在不需要真空接觸模式的情況下達(dá)到微米級的分辨率。

2、LED技術(shù)

·完 mei的單色曝光光源

·冷紫外線源,防止不良熱效應(yīng)

·可以在連續(xù)或脈沖模式下運行

·壽命長:uv-led光源不屬于消耗品

 

特征

整個工作表面上的完 mei單色曝光光源:更高的固化效率

低溫紫外線照射條件和基板環(huán)境的實時原位溫度控制:在整個表面上提供均勻的照射,從而防止不良的熱效應(yīng)

壽命長(基于 LED 系統(tǒng)):> 10 000 小時有效使用

用戶友好型觸摸屏界面,可設(shè)置曝光循環(huán)編程

提供連續(xù)或循環(huán)曝光模式

無需預(yù)熱時間

紫外線源強度調(diào)節(jié)的計算機控制,很直觀

紫外線照射室*密封:保證用戶安全

自動晶圓裝卸系統(tǒng)

低消耗

 

應(yīng)用范圍:

UV-KUB 2 系統(tǒng)非常適合實驗室和研發(fā)團(tuán)隊的廣泛應(yīng)用,涉及微流體、光學(xué)、生物技術(shù)、微技術(shù)、需要 1 個掩層的光刻工藝、晶圓鍵合、簡單層或粘合劑固化、連接、組裝和生物 或細(xì)胞培養(yǎng)。

 

技術(shù)參數(shù):

分辨率

1µm

發(fā)散角

2°

可編程周期數(shù)

10

曝光周期(連續(xù)/不連續(xù))

1 秒到 1 小時

接觸模式

硬(物理)接觸或軟(接近)接觸

 

UV-LED光源:

波長

365nm +/- 5nm

均勻曝光

+/- 5%

LED的壽命

>10000小時

 

工作處理表面:

處理表面

4英寸或6英寸晶圓

曝光期間的基板預(yù)熱

1

兼容光刻膠

SU8Shipley、AZ ResistK-CL 抗蝕劑

 

其他參數(shù):

·尺寸260(L)x 260(W)x 260(H)毫米

·重量8,2千克/18

·彩色觸摸屏:5,7英寸

·功率密度:35 mW/cm2+/-10%

·電源:100 v/240 V-50 Hz/60 Hz

·功率/消耗量180 W

·膜版與晶之間的距離控制:10 µm

·全版曝光:6mm

·基片厚度+層數(shù):最大2mm


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