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一、產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

MYCRO*荷蘭MMA16光刻機(jī)（Mask Aligner)，是的光刻系統(tǒng)，為半導(dǎo)體制造和科研領(lǐng)域提供品質(zhì)優(yōu)良穩(wěn)定的全波段紫外光刻機(jī)系統(tǒng)，廣泛的應(yīng)用于半導(dǎo)體光刻工藝制程、微機(jī)電MEMS、二極管芯片、發(fā)光二極體（LED）芯片制造、生物器件、納米科技、顯示面板LCD、光電器件、奈米壓印以及電子封裝等諸多領(lǐng)域?？蛻羧缑绹?guó)航空航天公司、飛利浦、摩托羅拉、惠普、牛津大學(xué)、劍橋大學(xué)、斯坦福大學(xué)、倫敦大學(xué)等等。

光刻機(jī)分為半自動(dòng)和全自動(dòng)兩大系列。其中MMA16掩碼對(duì)準(zhǔn)器是一種高性能掩碼對(duì)準(zhǔn)器，已經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的組件設(shè)計(jì)。該系統(tǒng)是一個(gè)理想的經(jīng)濟(jì)選擇研發(fā)，或有限的規(guī)模，試生產(chǎn)。我們采用了一種創(chuàng)新的系統(tǒng)，使基板快速而輕柔地拉平，在接觸曝光過(guò)程中實(shí)現(xiàn)平行光掩模對(duì)準(zhǔn)和在晶圓上均勻接觸。該系統(tǒng)具有一微米的分辨率和校準(zhǔn)精度。

MMA16的特點(diǎn)是一個(gè)可靠的紫外線光源，提供準(zhǔn)直紫外線在近或深紫外光使用燈。雙傳感器、光反饋回路與恒定強(qiáng)度控制器相連，可將曝光強(qiáng)度控制在所需強(qiáng)度的±2%以內(nèi)?？梢钥焖俣菀椎馗淖僓V波長(zhǎng)。這是一個(gè)靈活，經(jīng)濟(jì)的解決方案，任何入門級(jí)口對(duì)準(zhǔn)和紫外線曝光應(yīng)用。

MMA16面罩對(duì)準(zhǔn)器軟件的特點(diǎn)是易于理解和Z越的人機(jī)工程學(xué)，減少了操作人員的培訓(xùn)時(shí)間，使其更容易與系統(tǒng)一起工作

二、技術(shù)參數(shù)：

1、光掩模的尺寸：5英寸大；

2、晶片大小：大4英寸(無(wú)定形)；

3、掩模架滑動(dòng)：手動(dòng)卡盤；

4、模板移動(dòng)：X=±3mm, Y=±3mm；

5、曝光方法：支持接近式曝光，各種接觸式（軟接觸/硬接觸/間隙印刷/真空接觸/低真空接觸）曝光；

6、照明：250W超高壓燈

7、照明不均勻性：±5%

8、有效接觸面積：直徑100毫米

9、分辨率：3mµL/S

10、對(duì)齊方法：通過(guò)攝像頭查看

11、對(duì)齊物鏡：10 x(上/下)

12、總放大倍率：100 x

13、物鏡分離：15˜90毫米

14、對(duì)準(zhǔn)范圍：X,Y=±4毫米

15、對(duì)準(zhǔn)間隙：99年09年µm

16、對(duì)準(zhǔn)精度：小于±5毫米

17、主機(jī)電源：220/50Hz, 16A (600W)

18、氮?dú)猓?.4˜0.5 Mpa

19、真空壓力：小于21.3kPa(大氣壓-80kPa)

20、主機(jī)尺寸：高度712mm×寬度700mm×深度 440mm

21、凈重：約250Kg

三、產(chǎn)品特點(diǎn)：

高分辨率打印

高精度X,Y,對(duì)準(zhǔn)臺(tái)和顯微鏡操縱器

高強(qiáng)度光學(xué)配置

不同紫外線照射波長(zhǎng)

低限度的操作員培訓(xùn)

人體工學(xué)操作

易于理解用戶界面

易于進(jìn)行所有組件的組裝

掩模對(duì)準(zhǔn)器

無(wú)需預(yù)熱時(shí)間

價(jià)格低