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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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公司信息

聯(lián)人:
葉盛
話:
4008800298
機(jī):
13681069478
真:
址:
洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
編:
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www.mycro.net.cn
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www.mycro.cn
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http://yimoshopping.cn/st119375/
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SCS112/SCSe124/SCSe126濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)
濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)
參考價(jià) 面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 型號 SCS112/SCSe124/SCSe126
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時(shí)間:2024-05-17 10:26:46瀏覽次數(shù):2109

聯(lián)系我們時(shí)請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 進(jìn)口 應(yīng)用領(lǐng)域 電子
SCS112型是一款高效率手動型的濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng),專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片,針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案,針對10英寸晶圓片。
【詳細(xì)說明】

濕法顯影掩膜版清洗系統(tǒng)

手動型SCS112

SCS112型是一款高效率手動型的系統(tǒng),專門設(shè)計(jì)用于在劃片或劃片后清洗晶片。可通過施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來清潔安裝在環(huán)(抓環(huán))或膠片框架上的晶圓,然后使用高轉(zhuǎn)速,氮?dú)廨o助或紅外加熱燈進(jìn)行快速干燥。該系統(tǒng)大可處理8英寸晶圓。

功能:

  • 可處理高達(dá)8英寸的晶圓,包括未安裝的晶片以及膠帶環(huán)形和薄膜框架安裝晶片。
  • 振蕩高壓直流水,風(fēng)扇射流組裝(取決于高達(dá)15002000/平方英寸 配置上)或霧化噴霧噴嘴,高效清潔。
  • 快速有效干燥的氮?dú)獯祾吆脱h(huán)結(jié)束時(shí)的氮晶片提升。
  • 微處理器控制并儲存多種配方。
  • 直流無刷主軸電機(jī)變速。
  • DI水凈化,營造無細(xì)菌系統(tǒng)。
  • 內(nèi)置安全聯(lián)鎖和正極蓋,運(yùn)行期間鎖定。

選項(xiàng): 

  • 托盤,大可裝載8英寸晶片
  • 用于干燥的紅外線加熱燈
  • 消除靜電的二氧化碳再生離子器
  • 內(nèi)置排氣鼓風(fēng)機(jī)
  • 真空發(fā)生器

產(chǎn)品參數(shù):

  • 產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng) 
  • 型號:SCS112
  • 可用機(jī)械臂:1
  • 大基板尺寸:高達(dá)8英寸的晶圓片
  • 大主軸速度:2500
  • 配方:多3
  • 分配:1
  • 尺寸:26英寸寬x 21英寸深x 40英寸高
  • 重量:約200
  • 功率:220伏交流電,10安培,50/60赫茲

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手動型SCSe124

SCSe124型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案。該系統(tǒng)非常可靠且具有成本效益,它經(jīng)過驗(yàn)證,擁有各種清潔技術(shù)。SCSe124可以配置幾種不同的清潔選項(xiàng),包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等??焖儆行У母稍锛夹g(shù)是結(jié)合了可變轉(zhuǎn)速和可選項(xiàng)加熱DI水,氮?dú)廨o助或加熱燈。SCSe124具有微處理控制器,該控制器可調(diào)整過程參數(shù),并儲存多達(dá)10個(gè)程序。

功能:

  • 可處理直徑高達(dá)10英寸的基板。
  • 主軸組件帶有直流無刷電機(jī)(可升級以獲得更多功能)。
  • 可調(diào)節(jié)機(jī)械臂速度和行程位置。
  • 徑向排氣腔,可實(shí)現(xiàn)大層流。
  • 獨(dú)立式聚丙烯腔室。
  • 微處理器可控制10個(gè)程序段。
  • 內(nèi)置安全聯(lián)鎖。
  • 按鈕蓋啟動 打開/關(guān)閉。
  • 觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。
  • 多可使用2個(gè)機(jī)械臂。

產(chǎn)品參數(shù):

  • 產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng) 
  • 型號:SCSe124
  • 可用機(jī)械臂:2
  • 大基板尺寸:直徑10英寸晶圓片
  • 大主軸速度:2500
  • 配方:多10
  • 分配:12

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手動型SCSe126

SCSe126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案。該系統(tǒng)非??煽壳揖哂谐杀拘б妫?jīng)過驗(yàn)證,擁有各種清潔技術(shù)。SCSe126可以配置幾種不同的清潔選項(xiàng),包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等??焖儆行У母稍锛夹g(shù)是結(jié)合了可變轉(zhuǎn)速和可選項(xiàng)加熱DI水,氮?dú)廨o助或加熱燈。SCSe126具有微處理控制器,該控制器可調(diào)整過程參數(shù),并儲存多達(dá)10個(gè)程序。

功能:

  • 可處理直徑高達(dá)10英寸的基板。
  • 主軸組件帶有直流無刷電機(jī)(可升級以獲得更多功能)。
  • 可調(diào)節(jié)機(jī)械臂速度和行程位置。

     徑向排氣腔,可實(shí)現(xiàn)大層流。

     獨(dú)立式聚丙烯腔室。

     微處理器可控制10個(gè)程序段。

     內(nèi)置安全聯(lián)鎖。

     按鈕蓋啟動 打開/關(guān)閉。

     觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯(cuò)誤報(bào)告。

     多可使用4個(gè)機(jī)械臂。

?產(chǎn)品參數(shù):

  • 產(chǎn)品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統(tǒng) 
  • 型號:SCSe126
  • 可用機(jī)械臂:4
  • 大基板尺寸:直徑10英寸晶圓片
  • 大主軸速度:2500
  • 配方:多10
  • 分配:12


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