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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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K1050X射頻等離子體蝕刻機
射頻等離子體蝕刻機
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號 K1050X
  • 品牌 助藍科技
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間:2024-05-17 09:33:39瀏覽次數(shù):2271

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!

【簡單介紹】
產(chǎn)地類別 進口 價格區(qū)間 20萬-30萬
應(yīng)用領(lǐng)域 電子
射頻等離子體蝕刻機Quorum K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體(例如CF 4) 去除硅層,以及用于使用氧氣去除光刻膠。 等離子灰化是指使用氧氣或空氣對有機材料進行可控的低溫去除,其廣泛應(yīng)用于研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEM和SEM樣品以及樣品支架。
【詳細說明】

射頻等離子體蝕刻機簡介
Quorum K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器設(shè)計用于等離子蝕刻,等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用。
射頻等離子體可對各種樣品和基板進行低溫修飾。等離子體蝕刻通常僅限于半導(dǎo)體行業(yè),因為Quorum K1050X可以用于使用反應(yīng)氣體(例如CF 4 去除硅層,以及用于使用氧氣去除光刻膠。 
等離子灰化是指使用氧氣或空氣對有機材料進行可控的低溫去除,其廣泛應(yīng)用于研究和質(zhì)量控制領(lǐng)域。RF等離子還可用于塑料和聚合物的表面改性-以及清潔TEMSEM樣品以及樣品支架。
K1050X是一款現(xiàn)代的固態(tài)RF等離子桶式反應(yīng)器,旨在滿足廣泛多樣的等離子蝕刻,等離子灰化和等離子清洗應(yīng)用的研發(fā)和小批量生產(chǎn)的需求。
等離子刻蝕機
主要特征

  • 用于RF等離子蝕刻,灰化和清潔工藝
  • 抽屜式樣品臺-輕松便捷地取放樣品
  • 微控制器:操作員*可編程-操作簡便,靈活
  • 全自動操作
  • 現(xiàn)代固態(tài)100 W 13.56 MHz射頻電源-堅固可靠
  • 兩個氣體流量計-允許準確控制和混合工藝氣體,特別適用于等離子蝕刻工藝
  • 通風(fēng)孔控制-*小的樣品干擾-特別適用于精細的等離子體灰化樣品
  • 提供渦輪分子泵送版本(K1050XT

射頻等離子體蝕刻機產(chǎn)品描述

K1050X RF等離子桶式反應(yīng)器經(jīng)過精心設(shè)計,可以承受大量使用-每天24小時處理某些等離子灰化計劃-具有微處理器控制和自動操作功能,并具有耐用性和操作簡便性。各向同性(各個方向)的桶式系統(tǒng)等離子刻蝕或等離子灰化,適用于廣泛的應(yīng)用。

K1050X使用低壓射頻感應(yīng)產(chǎn)生的氣體放電來以柔和,可控的方式修飾樣品表面或去除樣品材料。與替代方法相比的一個顯著優(yōu)勢是等離子蝕刻和灰化過程是干燥的(不需要濕化學(xué)藥品),并且在相對較低的溫度下進行。

使用多種工藝氣體,可以使用多種表面改性方法。使用氧氣(或空氣)作為工藝氣體,分子分解為化學(xué)活性原子和分子,并且所產(chǎn)生的燃燒產(chǎn)物可通過真空系統(tǒng)方便地在氣流中帶走。

腔室,樣品處理和氣體控制

K1050X的直徑為110毫米x 160毫米的硼硅酸鹽玻璃室水平安裝,帶有滑出式樣品抽屜和觀察窗。通過可選的50 L / m機械旋轉(zhuǎn)真空泵可以抽空腔室。反應(yīng)性氣體的進入由兩個內(nèi)置電磁流量計控制的內(nèi)置流量計控制。
注意:對于需要避免使用硼硅酸鹽玻璃的等離子蝕刻應(yīng)用,K1050X可以配備可選的石英腔(EK4222)。

功率,調(diào)諧和真空監(jiān)控

可提供在13.56 MHz時高達100 WRF功率,可以無限地控制RF功率并將其預(yù)設(shè)為所需值。自動調(diào)整正向和反射功率是標準配置,并顯示在數(shù)字顯示屏上。

自動化微處理器控制

K1050X是全自動的。時間,功率和真空度的控制參數(shù)易于預(yù)設(shè),并且可以在整個過程中進行監(jiān)視和調(diào)整。
 

射頻功率的自動調(diào)諧以實現(xiàn)*佳控制和重現(xiàn)性

等離子過程中,自動調(diào)諧功能可確保RF功率自動與系統(tǒng)或負載的任何變化進行阻抗匹配。這意味著將腔室內(nèi)的RFplasma條件保持在*佳狀態(tài)-這很重要,因為它可以加快反應(yīng)時間,提高結(jié)果的可重復(fù)性,并在RF周期內(nèi)保護電源。

抽水選項

K1050X僅需要添加的旋轉(zhuǎn)泵。出于安全原因,當?shù)入x子蝕刻應(yīng)用涉及使用氧氣作為工藝氣體時,出于安全原因,強烈建議使用Edwards RV3 Fomblinized旋轉(zhuǎn)泵(參見  EK3176)。在需要避免使用油基旋轉(zhuǎn)泵的地方,可以選擇干式抽氣(請參閱:訂購信息)。

內(nèi)置渦輪分子泵浦的K1050XT RF等離子蝕刻機/灰砂機/清潔器

對于需要更清潔真空環(huán)境的等離子蝕刻和等離子清潔應(yīng)用,K1050XT具有內(nèi)置的渦輪分子泵
 
射頻等離子體的應(yīng)用
等離子蝕刻,等離子灰化和等離子清潔應(yīng)用多種多樣-以下是一些示例:

  • 使用等離子灰化制備技術(shù)  檢測石棉和人造礦物纖維及石棉
  • 光刻膠和外延層的等離子蝕刻(去除)
  • 有機材料(例如環(huán)氧樹脂,過濾器,食品等)的低溫等離子灰化
  • 塑料的表面處理,實現(xiàn)了從疏水到親水的轉(zhuǎn)化
  • 我改善了塑料的油漆和上墨特性
  • 用于SEMTEM檢查的有機樣品的等離子蝕刻和等離子灰化

SEMTEMSPM部分Plasma清洗



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