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邁可諾技術有限公司

主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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聯(lián)系人：
葉盛
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洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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RD3、RD6美國Futurrex顯影液
美國Futurrex顯影液
參考價 面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 型號 RD3、RD6
  • 品牌
  • 廠商性質(zhì) 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間：2024-05-17 08:15:49瀏覽次數(shù)：2362

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【簡單介紹】
供貨周期 一個月以上 規(guī)格 4L
應用領域 電子
Futurrex 成立于1985年，是美國光刻膠及輔助化學品制造商。產(chǎn)品以技術著稱，從2000年至今年均增長率為33%。主要客戶有：Ti、半導體、HP、SHARP、3M、Universal Display、ETC、LG、Qualcomm （高通）等。Futurrex長期與Intel實驗室合作，產(chǎn)品被廣泛收錄進美國各大學半導體教程，是各大研究機構產(chǎn)品。
【詳細說明】

Futurrex產(chǎn)品優(yōu)勢：

1、Futurrex光刻膠黏附性好，無需使用增粘劑（HMDS）

2、負性光刻膠常溫下可保存3年

3、150度烘烤，縮短了烘烤時間

4、單次旋涂能夠達到100um膜厚

5、顯影速率快，100微米的膜厚，僅需6~8分鐘

品牌

產(chǎn)地

型號

特性

應用

對生產(chǎn)力的影響

Futurrex

美國

RD3

堿性水溶液

光膠圖案顯影

Futurrex臨時粘層、
保護層和平坦化層的去除

一種顯影液可同時應用于正膠和負膠在去除PC3系列平坦化層時作為去除劑

RD6

Micro Resist

德國

ma~D332S

避免接觸酸和氧化劑

用于半導體芯片或微納結構制作

用于光刻膠的顯影

 

 



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