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邁可諾技術有限公司
主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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參考價 | 面議 |
更新時間:2024-05-16 21:41:15瀏覽次數(shù):2982
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應用領域 | 電子 |
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EZI UV Nanoimprint System PL400
特點:
? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理
? 低于10納米分辨率,產率高達99%
? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產量增大
? 支持各種類型的硬模和軟模
? 可變模具和基材尺寸,靈活方便
? 可編程PLC,通過自定義參數(shù)進行過程控制,帶觸摸屏用戶界面
? 對準功能選項
? 多種工藝,適用于各種應用光學器件,顯示器,數(shù)據(jù)存儲,生物醫(yī)學器件,半導體IC,化學合成和*材料等
? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統(tǒng)的光刻工藝兼容
EZ Imprinting處理器參數(shù):
基材尺寸: 4“標準(尺寸較小,形狀不規(guī)則)
印記區(qū) : 與晶圓尺寸相同。
模板尺寸 4”,2” and 1”