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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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勻膠機/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機

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    WS1000濕法刻蝕機應(yīng)用廣泛

    2016-6-27　　閱讀(2412)

     　　WS1000濕法刻蝕機的應(yīng)用非常廣泛，下面來看下它應(yīng)用在哪些方面：
    　　
    　　WS1000濕法刻蝕機應(yīng)用領(lǐng)域
    　　1、半導(dǎo)體元件、印刷線路板的清洗。
    　　2、高分子材料表面修飾
    　　3、生物芯片、微流控芯片的清洗
    　　4、芯片、電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片等的清洗
    　　5、各種形狀的人工晶體、ATR元件、天然晶體和寶石的清洗。
    　　6、光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片的清洗。
    　　7、各種陶瓷、金屬基片上的殘留凝膠等雜質(zhì)的清洗。
    　　8、各種醫(yī)療器材和儀器的清洗。
    　　9、增加復(fù)合材料、生物分子材料表面的結(jié)合力。


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