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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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邁可諾技術(shù)有限公司
主營產(chǎn)品： 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī) |
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| 產(chǎn)品圖片 | 產(chǎn)品名稱 | |||
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PlasmaDartPlasmaDart大氣常壓等離子清洗系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：PlasmaDart是一種結(jié)構(gòu)緊湊，輕便小巧且自動(dòng)控制的大氣常壓等離子處理系統(tǒng)，可輕松集成到現(xiàn)有生產(chǎn)線中。 通過高壓放電將等離子體引入通向處理噴嘴的腔室中，注入壓縮空氣流，在放電的作用下，噴嘴噴射由氣體分解成的反應(yīng)物質(zhì)，從而形成等離子體射流。該射流的反應(yīng)特性可進(jìn)行表面處理。等離子體射流具有較低的電勢(shì)，可在電子工業(yè)中使用。 產(chǎn)品型號(hào)：PlasmaDart 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PlasmaSTAR® 100/200等離子處理系統(tǒng) 簡(jiǎn)單介紹：PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料。 PlasmaSTAR®系統(tǒng)擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。 產(chǎn)品型號(hào)：PlasmaSTAR® 100/200 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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Tergeo-PlusPIE等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：一、PIE等離子清洗機(jī)應(yīng)用 等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物，去除光阻膠：產(chǎn)生表面活性功能組； 清洗提高材料表面親水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS； 表面活化：渲染表面的親水性或疏水性，鍵合和沉積前的表面預(yù)處理 表面聚合：沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面； 表面改性：在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán)，高分子材料表面修飾； 去除表面殘留微生物，醫(yī)療器械的消毒和 產(chǎn)品型號(hào)：Tergeo-Plus 所在地：國外 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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Tergeo美國PIE等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：一、美國PIE等離子清洗機(jī)應(yīng)用 等離子清洗機(jī)清除樣品表面的污染物，去除光阻膠：產(chǎn)生表面活性功能組； 清洗提高材料表面親水性及疏水性，清洗生物芯片、微流控芯片，PDMS； 表面活化：渲染表面的親水性或疏水性，鍵合和沉積前的表面預(yù)處理 表面聚合：沉積帶官能分子團(tuán)的聚合物，移植聚合物到活化后的材料表面； 表面改性：在材料表面產(chǎn)生官能分子團(tuán)，高分子材料表面修飾； 去除表面殘留微生物，醫(yī)療器械的消毒和 產(chǎn)品型號(hào)：Tergeo 所在地：國外 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PlasmaStar 100/100 RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100 簡(jiǎn)單介紹：反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaStar 100儀器介紹 PlasmaSTAR®系列等離子處理系統(tǒng)適合處理所有的材料，擁有多種腔室和電極配置，可滿足不同的等離子工藝和基片尺寸。占地面積小，用于各種等離子工藝的模塊化腔室和電極配置。此外，觸摸屏計(jì)算機(jī)控制，多級(jí)程序控制和組件控制，操作簡(jiǎn)單。PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 產(chǎn)品型號(hào)：PlasmaStar 100/100 RIE 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PE-75等離子體表面處理儀 簡(jiǎn)單介紹：儀器簡(jiǎn)介：等離子體表面處理儀除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。 產(chǎn)品型號(hào)：PE-75 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PE-50桌面式等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：等離子體清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能：PE-25等離子體清洗機(jī)的等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。 產(chǎn)品型號(hào)：PE-50 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PE-25美國進(jìn)口等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：美國進(jìn)口等離子清洗機(jī)除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能：PE-25等離子體清洗機(jī)的等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。 產(chǎn)品型號(hào)：PE-25 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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SCE1818Anatech等離子體表面處理機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：應(yīng)用： 芯片封裝，工業(yè)應(yīng)用，醫(yī)學(xué)應(yīng)用等，是小尺寸實(shí)驗(yàn)室R&D 或小規(guī)模生產(chǎn)的理想選擇。 產(chǎn)品型號(hào)：SCE1818 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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SCE115等離子體表面活化處理機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：應(yīng)用： 芯片封裝，工業(yè)應(yīng)用，醫(yī)學(xué)應(yīng)用等，是小尺寸實(shí)驗(yàn)室R&D 或小規(guī)模生產(chǎn)的理想選擇。 產(chǎn)品型號(hào)：SCE115 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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SCE-106Anatech等離子去膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：應(yīng)用： 芯片封裝，工業(yè)應(yīng)用，醫(yī)學(xué)應(yīng)用等，是小尺寸實(shí)驗(yàn)室R&D 或小規(guī)模生產(chǎn)的理想選擇。 產(chǎn)品型號(hào)：SCE-106 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PPC973PPC等離子去膠機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：PPC等離子去膠機(jī)是一臺(tái)臺(tái)式微波等離子清洗機(jī)設(shè)備。等離子清洗機(jī)系統(tǒng)融合了下面的特點(diǎn)，并在眾多的應(yīng)用領(lǐng)域中得到肯定。 產(chǎn)品特色 負(fù)載循環(huán)控制，模擬功率控制 處理機(jī)存儲(chǔ) 水冷底座 減少污水排放 安全保護(hù)設(shè)計(jì) 操作簡(jiǎn)便 維護(hù)方便 產(chǎn)品型號(hào)：PPC973 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PlasmaStar 200/200 RIE等離子刻蝕機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：PlasmaSTAR®模塊化腔室和電極組件是該系統(tǒng)的*功能。 腔室材料是硬質(zhì)陽極氧化鋁， 有幾種不同的電極設(shè)計(jì)，包括用于反應(yīng)離子刻蝕（RIE）和平面處理的水冷平板電極，用于表面清洗或處理的交替多層托盤電極，用于小化離子損傷的下游電極，和用于普通的圓柱形籠式電極。 產(chǎn)品型號(hào)：PlasmaStar 200/200 RIE 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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Plasma-Preen II 862微波等離子清洗機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：等離子清洗機(jī)又稱等離子體清洗機(jī)，臺(tái)式微波等離子清洗機(jī)，PPC等離子清洗機(jī)，水冷式PPE等離子蝕刻機(jī)，圓筒型PPC等離子清洗機(jī)，PLASMA-PREEN等離子清洗/蝕刻系統(tǒng)，Plasma-Preen System 產(chǎn)品型號(hào)：Plasma-Preen II 862 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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SCE-604Anatech等離子灰化機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO的SCE-604系列感應(yīng)耦合等離子體（ICP）等離子體系統(tǒng)是用于Anatech等離子灰化機(jī)工藝的Z有效儀器。適用設(shè)備如：SCE-104, 106, 108。等體灰化1-4個(gè)樣本的系統(tǒng)（4個(gè)獨(dú)立的反應(yīng)艙），每個(gè)石英反應(yīng)艙是獨(dú)立封閉，從而避免交叉污染。 產(chǎn)品型號(hào)：SCE-604 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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SCE-110Anatech ICP等離子刻蝕機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO的SCE-110系列Anatech ICP等離子刻蝕機(jī)是用于等離子體灰化工藝的Z有效儀器。SCE-110等離子灰化機(jī)用于殘留無機(jī)物的掃描電鏡（SEM）和或化學(xué)分析之前的有機(jī)物去除。適用設(shè)備如：SCE-104, 106, 108。 產(chǎn)品型號(hào)：SCE-110 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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SCE-1414Anatech 鋁制等離子表面處理機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：MYCRO的SCE系列鋁制反應(yīng)艙等離子體系統(tǒng)是該領(lǐng)域的產(chǎn)品。我們的Anatech 鋁制等離子表面處理機(jī)無論是做研發(fā)還是大規(guī)模生產(chǎn)，總有一款SCE系列系統(tǒng)可以滿足需要。就設(shè)備設(shè)計(jì)、質(zhì)量或是交貨靈活性、經(jīng)濟(jì)型等離子體系統(tǒng)等方面而言，沒有公司與之相提并論。 產(chǎn)品型號(hào)：SCE-1414 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PDC-32G-2Harrick小型等離子刻蝕機(jī) 簡(jiǎn)單介紹：Harrick小型等離子刻蝕機(jī)是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 產(chǎn)品型號(hào)：PDC-32G-2 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PDC-002Harrick 氧等離子表面處理儀 簡(jiǎn)單介紹：Harrick 氧等離子表面處理儀是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 Harrick 等離子體表面處理儀短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清洗掉。 產(chǎn)品型號(hào)：PDC-002 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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PDC-002-HPHarrick小型等離子清洗機(jī)HP 簡(jiǎn)單介紹：Harrick小型等離子清洗機(jī)HP是一種小型化、超清洗設(shè)備。 Harrick等離子體表面處理儀采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來的二次污染。 Harrick 等離子體表面處理儀外接一臺(tái)真空非破壞性的泵，工作時(shí)等離子體表面處理儀的清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面。 產(chǎn)品型號(hào)：PDC-002-HP 所在地：北京市 更新時(shí)間：2024-05-16 |
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