SD-650MH 高真空磁控濺射儀報價
| 參考價 | ￥ 150000 |
| 訂貨量 | ≥1臺 |
- 公司名稱 北京海富達科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號 SD-650MH
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2025/2/11 8:40:58
- 訪問次數(shù) 1551
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北京海富達科技有限公司成立于2014年，是醫(yī)療設備、實驗設備、平臺綜合解決方案提供商。公司為國內(nèi)企事業(yè)單位提供儀器儀表，實驗設備以及整體解決方案。
公司與國內(nèi)外多家生產(chǎn)商建立長期合作關系，經(jīng)營產(chǎn)品廣泛，靈活滿足不同事業(yè)單位和企業(yè)客戶的差異化需求以及快速創(chuàng)新的追求，產(chǎn)品故障率低、維護成本小、性能優(yōu)異，售后服務完善。公司產(chǎn)品在行業(yè)內(nèi)均擁有持續(xù)的應用歷史并經(jīng)過市場實際應用檢驗。
堅持以持續(xù)創(chuàng)新為客戶不斷創(chuàng)造價值為經(jīng)營理念，公司在產(chǎn)品研發(fā)方面投入比例逐年遞增，目前自主研發(fā)并投入市場的產(chǎn)品已達十余種，長期以來，公司一直按照國際化標準，搭建實驗室平臺，構建高品質(zhì)、高標準、持續(xù)創(chuàng)新的發(fā)展體系，堅持穩(wěn)步發(fā)展的管理理念，不斷刷新自己在業(yè)內(nèi)的記錄。
便攜式數(shù)字溫度計HH10/Onecal，英國便攜式污泥濃度計UP/750，氣象站，風向風速儀........
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 化工 |
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高真空磁控濺射儀報價高真空磁控濺射儀報價（可噴鎂，鋁，金銀鉑） 型號:KM1-SD-650MH庫號：M403191
原理：
濺射鍍膜的原理是稀薄氣體在
異常輝光放電產(chǎn)生的等離子體在電
場的作用下，對陰極靶材表面進行轟
擊，把靶材表面的分子、原子、離子
及電子等濺射出來，被濺射出來的粒
子帶有一定的動能，沿一定的方向射
向基體表面，在基體表面形成鍍層。
濺射時產(chǎn)生的快電子在正交的電磁
場中作近似擺線運動，增加了電子行
程，提高了氣體的離化率，同時高能
量粒子與氣體碰撞后失去能量，基體
溫度較低，在不耐溫材料上可以完成
鍍膜。
用途：
KM1-SD-650MH 高真空磁控濺射鍍膜儀是袖珍型磁控濺射
設備,主要由濺射真空室、磁控濺射靶、樣品臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測
量及電控系統(tǒng)等部分組成。高真空濺射可用于金屬、半導體、絕緣體等多種薄膜材料的
制備，且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點，可用于大專、科研
院所的薄膜材料研究、制備。
參數(shù)：
儀器主機尺寸: 長 610mm×寬 420mm×高 220mm（注：含腔體總高 490mm）
工作腔室尺寸： 標配：玻璃腔體（高度可選）：直徑 260mm×高 200mm（外尺寸）
直徑 240mm×高 200mm（內(nèi)尺寸）
選配：金屬腔體：直徑 260mm×高 270mm（外尺寸 ）
直徑 210mm×高 270mm（內(nèi)尺寸）
靶頭： 標配：單靶
選配：雙靶（雙靶儀器主機尺寸和工作腔體尺寸會隨之增大）
靶材尺寸： 直徑 50mm×厚 3mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）
靶材料： 標配一塊直徑 50mm×3mm 的銅靶（可選配多種靶材）
靶槍冷卻方式： 水冷
真空系統(tǒng)： 抗沖擊渦輪分子泵，抽速為 300L/s
前級機械泵： 抽速為 4L/s，帶防返油電磁閥及油污過濾器
真空測量： 采用復合真空計監(jiān)測真空真空度: 5×10
-5Pa（10 分鐘可到 9×10
-4Pa）
電源： 標配：直流恒流電源：輸入電壓：220V
輸出電壓：0-600v
輸出電流：0-1.6A
選配：射頻功率電源：功率 1000W，配射頻匹配器。
載樣臺： 直徑 200mm，可根據(jù)客戶需求定制載樣臺。
工作氣體： Ar 等惰性氣體（需自備氣瓶及減壓閥）
氣路： 濺射真空度手動調(diào)整（可選配氣體質(zhì)量流量計）
水冷： 自循環(huán)冷卻水機
電源電壓： 220V 50Hz
啟動功率 3KW
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