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KM1-SD-900M 磁控濺射儀報(bào)價(jià)
| 參考價(jià) | ￥ 48500 |
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) |
- 公司名稱(chēng) 北京海富達(dá)科技有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號(hào) KM1-SD-900M
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2025/2/14 9:46:37
- 訪問(wèn)次數(shù) 1762
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北京海富達(dá)科技有限公司成立于2014年，是醫(yī)療設(shè)備、實(shí)驗(yàn)設(shè)備、平臺(tái)綜合解決方案提供商。公司為國(guó)內(nèi)企事業(yè)單位提供儀器儀表，實(shí)驗(yàn)設(shè)備以及整體解決方案。
公司與國(guó)內(nèi)外多家生產(chǎn)商建立長(zhǎng)期合作關(guān)系，經(jīng)營(yíng)產(chǎn)品廣泛，靈活滿足不同事業(yè)單位和企業(yè)客戶(hù)的差異化需求以及快速創(chuàng)新的追求，產(chǎn)品故障率低、維護(hù)成本小、性能優(yōu)異，售后服務(wù)完善。公司產(chǎn)品在行業(yè)內(nèi)均擁有持續(xù)的應(yīng)用歷史并經(jīng)過(guò)市場(chǎng)實(shí)際應(yīng)用檢驗(yàn)。
堅(jiān)持以持續(xù)創(chuàng)新為客戶(hù)不斷創(chuàng)造價(jià)值為經(jīng)營(yíng)理念，公司在產(chǎn)品研發(fā)方面投入比例逐年遞增，目前自主研發(fā)并投入市場(chǎng)的產(chǎn)品已達(dá)十余種，長(zhǎng)期以來(lái)，公司一直按照國(guó)際化標(biāo)準(zhǔn)，搭建實(shí)驗(yàn)室平臺(tái)，構(gòu)建高品質(zhì)、高標(biāo)準(zhǔn)、持續(xù)創(chuàng)新的發(fā)展體系，堅(jiān)持穩(wěn)步發(fā)展的管理理念，不斷刷新自己在業(yè)內(nèi)的記錄。
便攜式數(shù)字溫度計(jì)HH10/Onecal，英國(guó)便攜式污泥濃度計(jì)UP/750，氣象站，風(fēng)向風(fēng)速儀........
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工 |
|---|
磁控濺射儀報(bào)價(jià)磁控濺射儀報(bào)價(jià) 型號(hào):KM1-SD-900M庫(kù)號(hào)：M402591
原理：
在磁控濺射中，由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力，它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng)，其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng)，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到提高，可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以
改善薄膜的質(zhì)量。同時(shí)，經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì)使基片過(guò)熱。
參數(shù)：
?主機(jī)規(guī)格：300mm×360mm×380mm（W×D×H）
?靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）
?靶材：Au（標(biāo)配）
?樣品室：玻璃腔體160mm×120mm（D×H）
?靶材尺寸：Ф50mm
?高真空度：≤ 4X10-2 mbar
?大電流：100mA
?定時(shí)器：數(shù)碼計(jì)時(shí) 0-999S
?鍍膜面積：50mm
?微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管
?可通入氣體：多種
?高電壓：-1600 DCV
?機(jī)械泵：標(biāo)準(zhǔn)配置2L/S（國(guó)產(chǎn)VRD-8）
?冷卻方式：冷水機(jī)（可根據(jù)實(shí)驗(yàn)具體要求自備）
?速率：0--60nm/min
用途：
1、適用于電鏡實(shí)驗(yàn)室的掃描電子顯微鏡（SEM）觀察前對(duì)樣品的噴金、噴鉑。
2、非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作（噴金、噴鉑。噴銀等）
3、其他可以滿足條件的鍍膜實(shí)驗(yàn)。
特點(diǎn)：
1、成膜速率高。
2、基片溫度低，可以對(duì)溫度敏感的材料進(jìn)行鍍膜。
3、可實(shí)現(xiàn)大面積鍍膜。
4、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小，顆粒大小約4-20nm。
5、SETPLASMA手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。
6、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路。
7、同時(shí)可以通過(guò)換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達(dá)到細(xì)顆粒的涂層。
8、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到純凈的涂層。
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