賀利氏電子化學(xué)材料深耕與導(dǎo)電聚合物領(lǐng)域。如今，我們繼續(xù)高質(zhì)量和高可靠性的產(chǎn)品與服務(wù)。Clevios™ 可幫助延長(zhǎng)產(chǎn)品使用壽命，同時(shí)不會(huì)影響尺寸或?qū)嵱眯浴?/p>

Clevios™ 的突出特點(diǎn)

Clevios™ PEDOT/PSS 在導(dǎo)電化學(xué)領(lǐng)域有多重應(yīng)用。新型柔性顯示器、高性能電解電容器、抗靜電和導(dǎo)電保護(hù)層和屏蔽層以及印刷電子產(chǎn)品只是 Clevios™ 應(yīng)用領(lǐng)域的一小部分。

高導(dǎo)電性（高達(dá) 1,000      S/cm）

優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性

透明（在 d =      100nm 時(shí)透明度達(dá) 90）

聚合物分散體或原位聚合易于使用

操作安全

為特定應(yīng)用定制產(chǎn)品系列

高熱/紫外線穩(wěn)定性和可靠性

可根據(jù)工業(yè)需求進(jìn)行擴(kuò)展

用途廣泛，形式多樣

對(duì)于原位聚合，該產(chǎn)品可以單體形式提供，也可以水基分散體或與溶劑和添加劑混合的即用型配方形式提供。該產(chǎn)品系列包括單體、催化劑（氧化劑）、聚合物和專門為滿足您的要求而設(shè)計(jì)的配方。

CleviosT™導(dǎo)電聚合物的干燥

Clevios™導(dǎo)電聚合物涂層需要在加熱環(huán)境下干燥。干燥之后，Clevios™導(dǎo)電聚合物涂層便可投入使用，無(wú)需再進(jìn)行退火處

理或后處理。

干燥工藝可在普通的實(shí)驗(yàn)室熱風(fēng)對(duì)流式加熱爐中進(jìn)行。標(biāo)準(zhǔn)干燥條件:穩(wěn)定的PET薄膜基材，溫度120°C到130℃，干燥時(shí)間3

到15分鐘。根據(jù)涂層厚度和Clevios™產(chǎn)品種類不同，干燥時(shí)間還可以大幅縮短。盡管涂層在80°C左右的溫度下便能有效干

燥，但所需干燥時(shí)間會(huì)更長(zhǎng)。

Clevios™導(dǎo)電聚合物涂層高效的干燥方式是使用紅外線。賀利氏特種光源可根據(jù)干燥要求提供的定制化解決方案。

>賀利氏紅外線技術(shù)碳波紅外線輻射器

在OLED和OPV等應(yīng)用中，CleviosT™導(dǎo)電聚合物通過(guò)旋涂的方式進(jìn)行成膜，涂層在130°C到200C的加熱板上只需5到15分鐘

便能被烘干。Clevios™PEDOT:PSS涂層具有一定的吸濕性，因此在后續(xù)的涂層完成沉積之前，在沒(méi)有濕氣的環(huán)境下對(duì)涂

層進(jìn)行處理，或在進(jìn)一步加工之前使用加熱板對(duì)涂層進(jìn)行短時(shí)間的后續(xù)烘干處理。

電導(dǎo)率和表面電阻率

測(cè)量Clevios™導(dǎo)電聚合物電導(dǎo)率的方法之一是將該材料通過(guò)旋涂或刮涂的方式沉積到光滑的基材表面，形成一道薄薄的均勻涂

層。涂層厚度應(yīng)當(dāng)在50-500nm之間。

涂層厚度的測(cè)量方式:可以使用薄刀片將涂層劃開(kāi)，再采用機(jī)械或光學(xué)輪廓儀上的探針掃描整個(gè)刮痕面，再通過(guò)四點(diǎn)探針測(cè)試

儀測(cè)量涂層的表面電阻率。

此外，表面電阻率還可以通過(guò)使用萬(wàn)用表測(cè)量平行觸點(diǎn)之間的阻值來(lái)確定。觸點(diǎn)可以通過(guò)銀膠或使用蔭罩蒸發(fā)金屬的方式沉積

到Clevios™涂層表面。在簡(jiǎn)單的兩點(diǎn)測(cè)量過(guò)程中，引線和觸點(diǎn)的電阻率應(yīng)當(dāng)忽略不計(jì)。

測(cè)量CLEVIOST™導(dǎo)電聚合物的電導(dǎo)率和表面電阻率

用于OLED的高方阻Clevios™P系列(CleviosTM P AI 4083和CleviosT™PCH 8000)的電阻率必須在干燥的環(huán)境下測(cè)量，即在

真空腔室或在充滿氮?dú)饣驓鍤獾氖痔紫渲?，以避免受到濕氣的影響。?duì)Clevios™PCH 8000進(jìn)行測(cè)量時(shí)，金屬接觸點(diǎn)之間的

寬度應(yīng)當(dāng)小于長(zhǎng)度(b<<a)，否則電阻將變得太大而無(wú)法準(zhǔn)確測(cè)量。