在高真空濺射鍍膜設(shè)備（VPI 650MH系列濺射鍍膜儀）中，控制氣體流量對于濺射鍍膜的工藝穩(wěn)定性至關(guān)重要。常見的氣體流量控制設(shè)備有電磁流量閥（Electromagnetic Flow Valve）和氣體質(zhì)量流量控制器（Mass Flow Controller, MFC）。它們各自具有不同的工作原理和應(yīng)用場景，那么該如何選擇呢？

電磁流量閥：結(jié)構(gòu)相對簡單，適用于開關(guān)控制

工作原理

電磁流量閥是一種基于電磁鐵控制閥門開關(guān)的裝置，其工作方式類似于電磁繼電器：

• 當(dāng)電磁線圈通電時，電磁鐵產(chǎn)生磁場，驅(qū)動閥芯開啟，使氣體流動。

• 當(dāng)電磁線圈斷電時，磁場消失，彈簧或氣壓推動閥芯關(guān)閉，阻斷氣流。

• 也可通過 PWM（脈沖寬度調(diào)制）方式進行簡單的流量調(diào)節(jié)，但控制精度較低。

  
  

優(yōu)點

? 結(jié)構(gòu)簡單，成本較低? 適用于快速開關(guān)控制? 維護方便，使用壽命長

缺點

? 不能精確調(diào)節(jié)氣體流量，僅適用于開/關(guān)控制? 流量穩(wěn)定性較差，受環(huán)境溫度、氣壓變化影響較大

適用場景

• 需要簡單開/關(guān)控制的氣路系統(tǒng)

• 預(yù)抽真空過程中，用于粗略控制氣體進入真空腔體

• 適用于對流量精度要求不高的應(yīng)用，如普通氣體輸送

氣體質(zhì)量流量控制器（MFC）：高精度流量控制

工作原理

MFC 通過熱式流量傳感器或壓差測量技術(shù)，結(jié)合電子反饋控制，實現(xiàn)對氣體質(zhì)量流量（而非體積流量）的精準(zhǔn)調(diào)節(jié)：

• 傳感器實時檢測氣體流量，將數(shù)據(jù)傳輸給控制系統(tǒng)。

• 控制系統(tǒng)對比設(shè)定值，并通過比例閥調(diào)整流量，使其穩(wěn)定。

• 由于采用質(zhì)量流量測量，不受溫度、壓力變化的影響。

優(yōu)點

? 精度高（通?？蛇_ ±1% 設(shè)定值或更優(yōu)）? 可實現(xiàn)穩(wěn)定的氣體流量控制? 適用于多種工藝氣體，調(diào)節(jié)靈活? 受環(huán)境變化影響小，可長期保持穩(wěn)定流量

缺點

? 成本較高? 需要定期校準(zhǔn)以保證精度

適用場景

• 高真空濺射鍍膜工藝，精確控制工藝氣體流量（如氬氣、氧氣、氮氣等）

• 半導(dǎo)體制造，用于氣相沉積（PVD）

• 氣體分析儀器，對氣體流量要求嚴(yán)格的實驗或工業(yè)應(yīng)用

• 化工和生物工程，精確控制反應(yīng)氣體流量

所以該 如何選擇？

簡述如下：

• 如果只需要控制氣體通斷，例如真空腔體的抽氣控制或粗略進氣調(diào)節(jié)，可以選擇 電磁流量閥量閥（Em）

  
  

• 如果需要精確調(diào)節(jié)氣體流量，確保鍍膜過程的均勻性和穩(wěn)定性，則必須使用 氣體質(zhì)量流量控制器（MFC）

  
  

在高真空濺射鍍膜設(shè)備中，因為氣體流量的精確控制直接影響鍍膜質(zhì)量和重復(fù)性。如果您正在選購或升級鍍膜設(shè)備，請咨詢VPI的相關(guān)技術(shù)工程師了解您實驗的方案。