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光刻配套試劑 確保了半導(dǎo)體制造過程的順利進(jìn)行

來源:托托科技(蘇州)有限公司   2025年02月19日 16:39  

光刻配套試劑在半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵作用不容忽視。這些試劑與光刻膠協(xié)同工作,確保光刻工藝的順利進(jìn)行。顯影液能精確顯影光刻膠,形成電路圖案;剝離液則用于清除剩余光刻膠,為后續(xù)步驟做好準(zhǔn)備。增粘劑、TARC/BARC、TCM等材料,分別起到增強(qiáng)粘附性、減少反射、防水等作用,提高光刻工藝的精度。

 

隨著技術(shù)進(jìn)步和國家政策的支持,光刻配套試劑行業(yè)在我國的發(fā)展勢頭迅猛。這些試劑的質(zhì)量和性能直接關(guān)系到半導(dǎo)體產(chǎn)品的質(zhì)量和性能,因此,不斷提升研發(fā)能力,實(shí)現(xiàn)國產(chǎn)化替代,對我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展具有重要意義。

 

托托科技致力于為半導(dǎo)體制造及印刷行業(yè)提供全面的光刻配套試劑,包括顯影液、去膠液和增粘劑等關(guān)鍵材料。

RZX-3038顯影液

型號:RZX-3038

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:這是一種國產(chǎn)通用型光刻膠顯影液,適用于S1800系列、AZ5214、ROL-7133等多種光刻膠系列和型號。

 

MF-319顯影液

型號:MF-319

規(guī)格:5L/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口光刻膠顯影液,專為S1800 G2系列光刻膠設(shè)計(jì)。

 

AZ 400K顯影液

型號:AZ 400K

規(guī)格:加侖/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口顯影液,適用于AZ等多種光刻膠系列。

 

AZ 300 MIF Developer顯影液

型號:AZ 300 MIF Developer

規(guī)格:20L/

產(chǎn)品介紹:用于顯影AZ等多種光刻膠系列。

 

PGMEA顯影液

型號:PGMEA

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:國產(chǎn)SU8光刻膠顯影液。

 

SU-8 Developer顯影液

型號:SU-8 Developer

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口顯影液,專用于SU-8系列產(chǎn)品。

 

NMP去膠液

型號:NMP

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:國產(chǎn)通用型去膠液,適用于S1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等。

 

AZ 400T STRIPPER去膠液

型號:AZ 400T STRIPPER

規(guī)格:加侖/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,專為AZ系列產(chǎn)品設(shè)計(jì)。

 

remover 1165去膠液

型號:remover 1165

規(guī)格:加侖/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,適用于S1800 G2、SPR 220系列、PM等。

 

Remover PG去膠液

型號:Remover PG

規(guī)格:4L/

產(chǎn)品介紹:進(jìn)口去膠液,適用于SU8、LOR/PMGI SFPMMA等系列。

 

HMDS增粘劑

型號:HMDS

規(guī)格:1L/瓶;加侖/

產(chǎn)品介紹:光刻膠增粘劑,通過旋涂或熏蒸方法使用,有效改善光刻膠與襯底的粘附性,適用于玻璃、石英等襯底。

 

托托科技的產(chǎn)品線涵蓋了光刻工藝的各個(gè)環(huán)節(jié),確保了半導(dǎo)體制造過程的順利進(jìn)行,同時(shí)也為印刷行業(yè)提供了高品質(zhì)的解決方案。

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